[發明專利]一種提升微波加熱均勻性的方法及其雙端口微波加熱裝置

在審

• 申請號: 201811544211.6
• 申請日: 2018-12-17
• 公開（公告）號: CN109743806A
• 公開（公告）日: 2019-05-10
• 發明（設計）人: 朱鏵丞;黃卡瑪;楊陽
• 申請（專利權）人: 四川大學
• 主分類號: H05B6/68
• 分類號: H05B6/68;H05B6/72
• 代理公司: 昆明合眾智信知識產權事務所 53113
• 代理人: 劉靜怡

1.一種提升微波加熱均勻性的雙端口微波加熱裝置，包括微波加熱腔和微波信號發生裝置，其特征在于：還包括設置于加熱腔體兩側的波導；所述波導上設置有輻射器；

所述微波加熱腔是用以通過調節腔體的尺寸以及饋電的位置來減小反射的單模腔；

所述微波信號發生裝置包括信號源和微波相位調節器。

2.根據權利要求1所述的一種提升微波加熱均勻性的雙端口微波加熱裝置，其特征在于：所述單模腔為標準波導；

所述波導長度大于一個波長，所述窄邊為S11和S21值均小尺寸。

3.根據權利要求1或2所述的一種提升微波加熱均勻性的雙端口微波加熱裝置，其特征在于：所述輻射器是設置于波導寬邊的縫隙天線。

4.根據權利要求3所述的一種提升微波加熱均勻性的雙端口微波加熱裝置，其特征在于：所述縫隙天線設置于靠近單模腔一側的波導低端短路面1/4波長處，縫隙的寬度大于半個波長。

5.一種提升微波加熱均勻性的的方法，其特征在于：包括以下步驟：

A、在微波加熱腔兩側分別設置具有縫隙天線的矩形波導；

B、兩個信號源和微波相位調節器分別連接矩形波導；

C、調節相位：一信號源保持相位不變，另一信號源相位隨時間變化饋入微波加熱腔。

6.根據權利要求5所述的一種提升微波加熱均勻性的的方法，其特征在于：所述步驟B和C之間還包括步驟D、確定微波加熱腔的尺寸：波導長度大于一個波長；通過仿真參數掃描的方式選擇S11和S21值均小的波導窄邊尺寸。

7.根據權利要求5或6所述的一種提升微波加熱均勻性的的方法，其特征在于：所述步驟A具體的是：所述縫隙天線設置于靠近單模腔一側的波導低端短路面1/4波長處，縫隙的寬度大于半個波長。