[發明專利]太赫茲顯微成像系統及成像方法在審
| 申請號： | 201811543201.0 | 申請日： | 2018-12-17 |
| 公開（公告）號： | CN109632840A | 公開（公告）日： | 2019-04-16 |
| 發明（設計）人： | 徐利民;祁春超;譚信輝 | 申請（專利權）人： | 深圳市華訊方舟太赫茲科技有限公司;華訊方舟科技有限公司 |
| 主分類號： | G01N23/04 | 分類號： | G01N23/04 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 劉希 |
| 地址： | 518102 廣東省深圳市寶安*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 掩模板 波束 成像介質 單點探測器 太赫茲成像 投影裝置 顯微成像 成像 編碼調制單元 顯微成像系統 信號處理單元 編碼圖案 波束能量 成像系統 調制光束 反演算法 空間編碼 太赫茲源 圖案化 傳感 貼設 掩模 調制 照射 壓縮 發射 申請 | ||
1.一種太赫茲顯微成像系統，其特征在于，所述成像系統包括：
太赫茲源，用于發射太赫茲波束；
太赫茲編碼調制單元，包括投影裝置、掩模板及貼設于所述掩模板的被成像介質，其中，所述投影裝置產生圖案化的調制光束作用于所述掩模板產生掩模編碼圖案，以使得所述掩模板允許至少部分所述太赫茲波束通過并照射所述被成像介質；
單點探測器，用于接收多次經過所述掩模板和所述被成像介質后的太赫茲波束能量；
信號處理單元，采用壓縮傳感反演算法對所述單點探測器多次接收到的所述太赫茲波束能量進行顯微成像計算，實現所述太赫茲成像。
2.根據權利要求1所述的顯微成像系統，其特征在于，所述投影裝置包括泵浦光源以及光調制器；
其中，所述泵浦光源產生泵浦光束照射至所述光調制器，所述光調制器對所述泵浦光束光學特性進行調節，以使得其產生圖案化的調制光束。
3.根據權利要求2所述的顯微成像系統，其特征在于，所述光調制器為數字微透鏡陣列或空間光調制器的一種。
4.根據權利要求2所述的顯微成像系統，其特征在于，所述投影裝置還包括聚焦透鏡，所述聚焦透鏡用于將所述圖案化的調制光束匯聚至所述掩模板上。
5.根據權利要求1所述的顯微成像系統，其特征在于，所述單點探測器接收到的測量值和所述掩模板、所述被成像介質及所述太赫茲波束之間的滿足：
Y＝AX
其中，Y表示所述單點探測器接收到的所述測量值，A表示所述掩模板的圖形化矩陣，X表示所述被成像介質的圖像場景。
6.根據權利要求5所述的顯微成像系統，其特征在于，所述掩模板的圖形化矩陣為哈達瑪矩陣。
7.根據權利要求1所述的顯微成像系統，其特征在于，所述太赫茲源為半導體材料、光電導天線、非線性電光晶體、太赫茲自由電子激光器、太赫茲量子級聯激光器、太赫茲參量源或連續波太赫茲源的一種。
8.一種如權利要求1所述的太赫茲顯微成像系統的太赫茲顯微成像方法，其特征在于，所述成像方法包括：
發射太赫茲波束至所述掩模板；
調節所述投影裝置以使得所述投影裝置產生圖案化的調制光束；
將所述圖案化的調制光束作用于所述掩模板，以使得所述掩模板產生掩模編碼圖案，從而允許至少部分所述太赫茲波束通過所述掩模板；
所述至少部分所述太赫茲波束和貼設于所述掩模板的被成像介質相互作用；
接收相互作用后的所述太赫茲波束，利用壓縮傳感反演算法實現所述太赫茲成像。
9.根據權利要求8所述的成像方法，其特征在于，所述投影裝置包括泵浦光源以及光調制器；
其中，所述泵浦光源產生泵浦光束照射至所述光調制器，所述光調制器對所述泵浦光束光學特性進行調節，以使得其產生圖案化的調制光束。
10.根據權利要求9所述的成像方法，其特征在于，所述光調制器為數字微透鏡陣列或空間光調制器的一種。
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