[發明專利]一種表面帶自修復功能的高強度屏下指紋識別光電保護膜

在審

• 申請號: 201811541668.1
• 申請日: 2018-12-17
• 公開（公告）號: CN111320941A
• 公開（公告）日: 2020-06-23
• 發明（設計）人: 金國華
• 申請（專利權）人: 浙江欣麟新材料技術有限公司
• 主分類號: C09J7/29
• 分類號: C09J7/29
• 代理公司: 宿遷市永泰睿博知識產權代理事務所(普通合伙) 32264
• 代理人: 陳棟

本發明公開一種表面帶自修復功能的高強度屏下指紋識別光電保護膜，自上而下依次包括樹脂保護膜層、第一硅膠層、硬化層、基膜層、第二硅膠層及樹脂離型膜層，所述第一硅膠層為保護硅膠層，所述第二硅膠層為安裝硅膠層，其中所述硬化層的厚度為1?50μm，在TL84光源下觀察的彩虹紋特征為低彩虹表觀，所述的硬化層加硬液為聚氨酯系列、丙烯酸酯系列或環氧聚酯系列中的一種或幾種的混合物。本發明的保護膜通過采用帶自修復功能的特殊加硬層，該加硬層固化后的涂膜表面高清晰透亮，爽滑性優異，超疏水疏油，表面耐油筆污染，具有很好的抗指甲、銅刷劃傷性，微劃痕自修復性。

技術領域

本發明屬于保護膜技術領域，具體涉及一種表面帶自修復功能的高強度屏下指紋識別光電保護膜。

發明內容

本發明旨在提供一種表面帶自修復功能的高強度屏下指紋識別光電保護膜。

本發明的第一個發明目的在于提供一種表面帶自修復功能的高強度屏下指紋識別光電保護膜，自上而下依次包括樹脂保護膜層、第一硅膠層、硬化層、基膜層、第二硅膠層及樹脂離型膜層，所述第一硅膠層為保護硅膠層，所述第二硅膠層為安裝硅膠層，其中所述硬化層的厚度為1-50μm，在TL84光源下觀察的彩虹紋特征為低彩虹表觀，所述的硬化層加硬液為聚氨酯系列、丙烯酸酯系列或環氧聚酯系列中的一種或幾種的混合物。

進一步地，本發明的表面帶自修復功能的高強度屏下指紋識別光電保護膜，所述樹脂保護膜層的材質為在150℃環境下熱收縮率小于0.3%的光學塑料薄膜，材質為PC、ABS、PMMA、COP、PP、SRF或PET光學塑料薄膜中的一種，厚度為25-360μm；所述樹脂離型膜層的材質為在150℃環境下熱收縮率小于0.3%的光學塑料薄膜，材質為PC、ABS、PMMA、COP、PP、SRF或PET光學塑料薄膜中的一種，厚度為25-360μm。

進一步地，本發明的表面帶自修復功能的高強度屏下指紋識別光電保護膜，所述第一硅膠層的厚度為4-30μm，剝離力為1-30g，與硬化層的撕離力為0.5-10g，透光率為87%-96%，霧度范圍為0.2%-3.5%。

進一步地，本發明的表面帶自修復功能的高強度屏下指紋識別光電保護膜，所述基膜層的材質為PC、ABS、PMMA、COP、PP、SRF或PET光學塑料薄膜中的一種，在Re和Rth兩個方向的相位差小于30nm，厚度為25-360μ。

進一步地，本發明的表面帶自修復功能的高強度屏下指紋識別光電保護膜，所述第二硅膠層的厚度為8-80μm，與115°水滴角的液晶屏的貼合撕離力大于15g，剝離力為2-800g，透光率為88%-96%，霧度為0.2%-2.5%。

進一步地，本發明的表面帶自修復功能的高強度屏下指紋識別光電保護膜，其中樹脂保護膜層的材質為PC，厚度為50-188μm；所述第一硅膠層的厚度為8-15μm，與硬化層的剝離力為1.5-20g，與硬化層的撕離力為0.5-4g，透光率為88.5%-92.5%，霧度范圍為0.5%-2.5%；所述硬化層的厚度為2-25μm，表面水滴角為75-130°，表面油滴角為大于45°；所述基膜層的材質為PC，厚度的50-188μm；所述第二硅膠層的厚度為15-45μm，與115°水滴角的液晶屏的貼合撕離力大于20g，剝離力為50-300g，透光率為89.5%-92.5%，霧度為.5%-1.5%；所述樹脂離型膜層的材質為PC，厚度為50-188μm。

進一步地，本發明的表面帶自修復功能的高強度屏下指紋識別光電保護膜，所述基膜層為PC基膜層，所述PC基膜層的至少一側涂布有防腐蝕易接著層，所述防腐蝕易接著層的材質為聚酯、聚氨酯、丙烯酸、有機硅中的一種或多種的組合。

進一步地，本發明的表面帶自修復功能的高強度屏下指紋識別光電保護膜，所述PC基膜層包括雙層PC基膜，雙層PC基膜之間通過黏膠層粘合在一起，所述黏膠層為光學級的丙烯酸壓敏膠、聚氨酯膠、聚酯膠和OCA膠中的一種或多種的組合，粘合力500-5000g，透光率為88%-96%，霧度范圍為0.1%-2.5%。