[發明專利]一種雙層三維仿生消反射復合材料及其制備方法

有效

• 申請號: 201811541214.4
• 申請日: 2018-12-17
• 公開（公告）號: CN109622064B
• 公開（公告）日: 2020-07-03
• 發明（設計）人: 石剛;李新;李贏;王大偉;王利魁;倪才華;桑欣欣;朱海燕
• 申請（專利權）人: 江南大學
• 主分類號: B01J31/38
• 分類號: B01J31/38;A62D3/176
• 代理公司: 哈爾濱市陽光惠遠知識產權代理有限公司 23211
• 代理人: 張勇

1.一種消反射復合材料，其特征在于，所述消反射復合材料具有雙層三維仿生結構，包括金字塔結構的二氧化鈦和金字塔表面的聚吡咯；

所述消反射復合材料是在玻璃的正反兩面分別構筑三維金字塔結構的TiO₂ ，然后再原位生長聚吡咯PPy，形成具有人造蛾眼結構的PPy/TiO₂ 雙層三維仿生消反射復合材料；

所述消反射復合材料的制備方法包括：

(1)具有金字塔結構的二氧化鈦的制備：預先制備聚二甲基硅氧烷模板，然后將聚二甲基硅氧烷模板壓在滴有二氧化鈦溶膠的玻璃正反兩面，揮發溶劑、煅燒，即得金字塔結構的二氧化鈦；

(2)含表面聚吡咯的消反射復合材料的制備：三氯化鐵溶液中，吡咯在金字塔結構的二氧化鈦上原位生長，得到含表面聚吡咯的具有雙層三維仿生結構的消反射復合材料。

2.根據權利要求1所述的消反射復合材料，其特征在于，所述聚二甲基硅氧烷模板的制備方法包括：將硅片在堿性溶液中刻蝕得到具有金字塔結構的硅模板，然后將二甲基硅氧烷前驅液倒入硅模板之上，固化后得到與硅模板結構互補的聚二甲基硅氧烷模板。

3.根據權利要求2所述的消反射復合材料，其特征在于，所述堿性溶液為氫氧化鉀、或者氫氧化鉀和異丙醇的混合。

4.根據權利要求1所述的消反射復合材料，其特征在于，所述二氧化鈦溶膠中鈦源的體積含量為15％-30％。

5.根據權利要求1-4任一所述的消反射復合材料，其特征在于，所述步驟(2)中吡咯在二氧化鈦的表面原位生長10-20min即可得到含表面聚吡咯的具有雙層三維仿生結構的消反射復合材料。

6.一種光催化降解Rh 6G有機染料的方法，其特征在于，所述方法是利用權利要求1-5任一所述的消反射復合材料作為光催化劑。

7.一種光電材料或者器件，其特征在于，所述光電材料或者器件包含權利要求1-5任一所述的消反射復合材料 。