[發(fā)明專(zhuān)利]片狀Ni3 有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811540762.5 | 申請(qǐng)日: | 2018-12-17 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN109686591B | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-09-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王育喬;李紅顏;王青青;劉斯琦;孫岳明 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 東南大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01G11/86 | 分類(lèi)號(hào): | H01G11/86;H01G11/24;H01G11/30;C01G53/11;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 南京蘇高專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
| 地址: | 210096 *** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 片狀 ni base sub | ||
1.片狀Ni3S2包覆柱狀Ni3S2陣列電極的制備方法,其特征是,在柱狀的Ni3S2材料上引導(dǎo)生成片狀的Ni3S2,其制備步驟,包括以下方面:
(1)將Na2S2O3·5H2O和H2O2溶于去離子水中配置成溶液;
(2)將該溶液轉(zhuǎn)移至盛有預(yù)處理后的泡沫鎳的水熱反應(yīng)釜中,進(jìn)行高溫水熱反應(yīng);
(3)將反應(yīng)冷卻至室溫,取出片狀Ni3S2包覆柱狀Ni3S2陣列電極材料的泡沫鎳清洗干凈,真空干燥,即得基于泡沫鎳基底生長(zhǎng)的片狀Ni3S2包覆柱狀Ni3S2陣列電極;
所述步驟(1)配置成的溶液中,Na2S2O3·5H2O在Na2S2O3·5H2O和H2O2溶于去離子水的體系中的濃度為5~20 mmol/L;
所述步驟(1)中H2O2占去離子水的體積分?jǐn)?shù)的0.4~4%。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的片狀Ni3S2包覆柱狀Ni3S2陣列電極的制備方法,其特征是,泡沫鎳預(yù)處理的具體步驟為:將泡沫鎳依次放入稀鹽酸中超聲清洗20~30 min;蒸餾水清洗3~5次,一次5~10 min;無(wú)水乙醇清洗3~5次,一次5~10 min。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的片狀Ni3S2包覆柱狀Ni3S2陣列電極的制備方法,其特征是,所述稀鹽酸的濃度為1~3 mol/L。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的片狀Ni3S2包覆柱狀Ni3S2陣列電極的制備方法,其特征是,步驟(2)中的水熱反應(yīng)的溫度是100~150 ℃,反應(yīng)時(shí)間為1~3 h。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的片狀Ni3S2包覆柱狀Ni3S2陣列電極的制備方法,其特征是,步驟(3)中的真空干燥的溫度為60~80℃,干燥時(shí)間為10~12 h。
6.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3、4或5所述的方法制備的片狀Ni3S2包覆柱狀Ni3S2陣列電極,其特征是,在Ni3S2納米棒的表面包覆有Ni3S2納米薄片。
7.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3、4或5所述的方法制備的片狀Ni3S2包覆柱狀Ni3S2陣列電極,其特征是,應(yīng)用于超級(jí)電容器中,作為超級(jí)電容器的電極。
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