[發明專利]離子交換膜、離子交換膜的制造方法和電解槽有效
| 申請號: | 201811540760.6 | 申請日: | 2018-12-17 |
| 公開(公告)號: | CN109989072B | 公開(公告)日: | 2021-07-27 |
| 發明(設計)人: | 岡本浩司;高橋和也 | 申請(專利權)人: | 旭化成株式會社 |
| 主分類號: | C25B13/08 | 分類號: | C25B13/08;C25B9/19 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 李洋;龐東成 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 離子交換 制造 方法 電解槽 | ||
1.一種離子交換膜,其具有:
包含具有離子交換基的含氟系聚合物的膜主體;和
配置在所述膜主體的至少一個面上的被覆層,
其中,
所述膜主體具有:
包含具有磺酸基的含氟聚合物的層S;
包含具有羧酸基的含氟聚合物的層C;和
配置在該層S的內部、且起到作為強化線和犧牲線中的至少一者的作用的復數的增強材料,
在俯視所述離子交換膜時,設不存在所述增強材料的區域在純水中的膜截面平均厚度為A、設所述強化線彼此交叉的區域以及所述強化線與所述犧牲線交叉的區域在純水中的膜截面平均厚度為B的情況下,所述A和B滿足式(1),
2.0≦B/A≦5.0(1)
所述被覆層包含無機物顆粒和粘結劑,
相對于所述被覆層中所述無機物顆粒和粘結劑的總質量,所述粘結劑的質量比大于0.3且為0.9以下,
所述被覆層的表面粗糙度為1.20μm以上2.50μm以下。
2.如權利要求1所述的離子交換膜,其中,所述無機物顆粒為包含選自由元素周期表IV族元素的氧化物、元素周期表第IV族元素的氮化物和元素周期表第IV族元素的碳化物組成的組中的至少一種無機物的顆粒。
3.如權利要求1或2所述的離子交換膜,其中,所述無機物顆粒為氧化鋯的顆粒。
4.權利要求1所述的離子交換膜的制造方法,其包括下述工序:
將包含無機物顆粒、粘結劑和溶劑的涂布液以噴霧方式噴霧并干燥,由此在膜主體的表面形成被覆層,
所述噴霧時的平均液滴徑為100μm以下,
所述干燥時所述膜主體的表面溫度為40℃以上且為所述溶劑的沸點以下。
5.一種電解槽,其具備權利要求1~3中任一項所述的離子交換膜。
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