[發(fā)明專利]底部構(gòu)件及包括其的顯示設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811540660.3 | 申請日： | 2018-12-17 |
| 公開（公告）號： | CN109949700B | 公開（公告）日： | 2022-08-02 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 盧正訓(xùn);安以埈;金明任;馬韓娜;任宰佑 | 申請（專利權(quán)）人： | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號： | G09F9/30 | 分類號： | G09F9/30 |
| 代理公司： | 北京英賽嘉華知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11204 | 代理人： | 王達(dá)佐;劉錚 |
| 地址： | 韓國*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 底部 構(gòu)件 包括 顯示 設(shè)備 | ||
1.底部構(gòu)件，包括：
吸光元件；
頂部聯(lián)接層，所述頂部聯(lián)接層設(shè)置在所述吸光元件上；
第一緩沖元件，所述第一緩沖元件設(shè)置在所述吸光元件之下，其中，第一開口限定在所述第一緩沖元件中；
填充層，所述填充層設(shè)置在所述第一開口中，以及
振動聲學(xué)元件，所述振動聲學(xué)元件設(shè)置在所述第一緩沖元件下方，
其中，當(dāng)從頂部觀察時，所述振動聲學(xué)元件與所述第一開口和所述吸光元件重疊，以及
其中，所述振動聲學(xué)元件經(jīng)由所述填充層與所述第一緩沖元件聯(lián)接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的底部構(gòu)件，其中，當(dāng)從所述頂部觀察時，所述振動聲學(xué)元件的沿著一個方向測量的寬度大于所述第一開口的沿著所述方向測量的寬度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的底部構(gòu)件，其中，當(dāng)從所述頂部觀察時，所述振動聲學(xué)元件的外圍包圍所述第一開口的外圍。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的底部構(gòu)件，還包括：
散熱元件，所述散熱元件設(shè)置在所述第一緩沖元件之下，
其中，第二開口限定在所述散熱元件中，以及
其中，所述振動聲學(xué)元件設(shè)置在所述第二開口內(nèi)部。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的底部構(gòu)件，其中，
當(dāng)從所述頂部觀察時，所述振動聲學(xué)元件的外圍包圍所述第一開口的外圍，以及
當(dāng)從所述頂部觀察時，所述第二開口的外圍包圍所述振動聲學(xué)元件的所述外圍。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的底部構(gòu)件，其中，
所述填充層還設(shè)置在所述散熱元件與所述振動聲學(xué)元件之間的間隙中。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的底部構(gòu)件，還包括：
聯(lián)接層，所述聯(lián)接層設(shè)置在所述第一緩沖元件與所述散熱元件之間，
其中，所述散熱元件經(jīng)由所述聯(lián)接層與所述第一緩沖元件聯(lián)接。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的底部構(gòu)件，其中，
所述第一開口還限定在所述聯(lián)接層中，以及
所述填充層與所述聯(lián)接層的限定所述第一開口的側(cè)表面以及所述聯(lián)接層的面向所述散熱元件中的所述第二開口的表面接觸。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的底部構(gòu)件，其中，
所述填充層還與所述散熱元件的限定所述第二開口的側(cè)表面接觸。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的底部構(gòu)件，其中，
所述第二開口還限定在所述聯(lián)接層中，以及
所述填充層與所述聯(lián)接層的限定所述第二開口的側(cè)表面接觸，并且不與所述聯(lián)接層的面向所述散熱元件的表面接觸。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的底部構(gòu)件，其中，所述填充層還與所述散熱元件的限定所述第二開口的側(cè)表面接觸。
12.根據(jù)權(quán)利要求4所述的底部構(gòu)件，其中，
所述填充層還設(shè)置在所述第一緩沖元件與所述散熱元件之間，以及
所述散熱元件經(jīng)由所述填充層與所述第一緩沖元件聯(lián)接。
13.根據(jù)權(quán)利要求4所述的底部構(gòu)件，其中，所述散熱元件包括：
石墨層，所述石墨層設(shè)置在所述第一緩沖元件之下；
金屬層，所述金屬層設(shè)置在所述石墨層之下；以及
層間聯(lián)接層，所述層間聯(lián)接層設(shè)置在所述石墨層與所述金屬層之間，以及
其中，所述石墨層、所述金屬層和所述層間聯(lián)接層中的至少之一與所述填充層接觸。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的底部構(gòu)件，還包括：
第二緩沖元件，所述第二緩沖元件設(shè)置在所述第一緩沖元件之下，
其中，所述第二緩沖元件與所述第一緩沖元件聯(lián)接，
第二開口限定在所述第二緩沖元件中，以及
所述振動聲學(xué)元件設(shè)置在所述第二開口內(nèi)部。
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