[發(fā)明專利]一種輻照腔中大型效應(yīng)物內(nèi)部場強(qiáng)全局增強(qiáng)的裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811527792.2
• 申請日: 2018-12-13
• 公開（公告）號: CN109632456B
• 公開（公告）日: 2021-02-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳昌華;杜太焦;朱湘琴;蔡利兵;胡龍;鄭奎松;潘亞峰
• 申請（專利權(quán)）人: 西北核技術(shù)研究所
• 主分類號: G01N1/44
• 分類號: G01N1/44;A61N5/00;G01T1/29
• 代理公司: 西安智邦專利商標(biāo)代理有限公司 61211
• 代理人: 胡樂

1.一種輻照腔中大型效應(yīng)物內(nèi)部場強(qiáng)全局增強(qiáng)的裝置，設(shè)從輻照腔激勵源到輻照腔工作空間的水平方向為長度方向，輻照腔工作空間平行的上、下金屬板相對的方向為高度方向，與所述長度方向和高度方向均垂直的方向為寬度方向；其特征在于：

該裝置包括位于下部的絕緣介質(zhì)塊和位于上部的絕緣介質(zhì)套，效應(yīng)物放置于絕緣介質(zhì)塊上表面，并被罩于絕緣介質(zhì)套內(nèi)；絕緣介質(zhì)塊和絕緣介質(zhì)套在長度方向、寬度方向上均以效應(yīng)物為中心；

所述絕緣介質(zhì)塊的下端與下金屬板貼合，絕緣介質(zhì)塊的寬度與輻照腔工作空間的寬度相同，并在寬度方向兩側(cè)分別超出效應(yīng)物不少于80mm；

所述絕緣介質(zhì)套的上端與上金屬板貼合，下端與絕緣介質(zhì)塊的上表面相接；絕緣介質(zhì)套的外圍寬度及外圍長度均與所述絕緣介質(zhì)塊相同；

絕緣介質(zhì)套內(nèi)部在長度方向和高度方向上與效應(yīng)物保持間距，其中，長度方向絕緣介質(zhì)套內(nèi)壁兩側(cè)分別與效應(yīng)物的距離小于或等于60mm，絕緣介質(zhì)套內(nèi)部在高度方向上與效應(yīng)物的距離小于或等于30mm；

所述絕緣介質(zhì)塊和絕緣介質(zhì)套的介質(zhì)材料相同，其相對介電常數(shù)最優(yōu)解ε_r由絕緣介質(zhì)塊和絕緣介質(zhì)套的幾何模型以及輻照腔工作空間尺寸和輸入的電磁脈沖共同確定。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻照腔中大型效應(yīng)物內(nèi)部場強(qiáng)全局增強(qiáng)的裝置，其特征在于：設(shè)長度方向上靠近激勵源的一側(cè)稱為左側(cè)，遠(yuǎn)離激勵源的一側(cè)為右側(cè)，所述絕緣介質(zhì)套由位于效應(yīng)物左、右兩側(cè)的左介質(zhì)板、右介質(zhì)板以及位于效應(yīng)物上方的上介質(zhì)板組成。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的輻照腔中大型效應(yīng)物內(nèi)部場強(qiáng)全局增強(qiáng)的裝置，其特征在于：所述左介質(zhì)板、右介質(zhì)板以及上介質(zhì)板一體成型。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的輻照腔中大型效應(yīng)物內(nèi)部場強(qiáng)全局增強(qiáng)的裝置，其特征在于：所述絕緣介質(zhì)塊的高度大于上介質(zhì)板的高度。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的輻照腔中大型效應(yīng)物內(nèi)部場強(qiáng)全局增強(qiáng)的裝置，其特征在于：絕緣介質(zhì)套內(nèi)部左、右兩側(cè)到效應(yīng)物的距離相同。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的輻照腔中大型效應(yīng)物內(nèi)部場強(qiáng)全局增強(qiáng)的裝置，其特征在于：所述絕緣介質(zhì)塊和絕緣介質(zhì)套的主體介質(zhì)材料為甘油，由塑料容器封裝。