[發明專利]一種光學投影模組、感測裝置及設備

在審

• 申請號: 201811526792.0
• 申請日: 2018-12-13
• 公開（公告）號: CN109581795A
• 公開（公告）日: 2019-04-05
• 發明（設計）人: 田浦延
• 申請（專利權）人: 深圳阜時科技有限公司
• 主分類號: G03B21/20
• 分類號: G03B21/20;G01B11/25
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種光學投影模組，用于投射出預設的感測光斑圖案至被測目標物上進行三維感測，所述光學投影模組包括光源、光發散元件及光束調制元件，所述光源包括規則排布的發光單元，所述光發散元件設置在發光單元的出射光路上以將發光單元所發出的規則排布光束打散成非規則排布的光束，所述光束調制元件將所述非規則排布的光束復制多份后在被測目標物上投射出預設的感測光斑圖案。

2.如權利要求1所述的光學投影模組，其特征在于，所述光發散元件包括透光基板及形成在透光基板上多個光學微結構，所述光學微結構通過設置具有不同邊界條件的表面形狀來實現準直光束和改變光束方向的功能。

3.如權利要求2所述的光學投影模組，其特征在于，所述光學微結構包括具有準直光束功能的表面形狀及具有改變光束方向功能的表面形狀，所述具有準直功能的表面形狀與所述改變光束方向功能的表面形狀相互疊加而形成所述光學微結構的整體表面形狀。

4.如權利要求2所述的光學投影模組，其特征在于，所述光學微結構與發光單元一一對應設置，每個發光單元所發出的光束經過對應光學微結構后射出。

5.如權利要求2所述的光學投影模組，其特征在于，所述每個光學微結構與兩個或兩個以上的發光單元對應設置，該兩個或兩個以上的發光單元所發出的光束一起經對應光學微結構后射出。

6.如權利要求1所述的光學投影模組，其特征在于，所述發光單元選自垂直腔面發射激光器、發光二極管及激光二極管中的任意一種及其組合。

7.如權利要求1所述的光學投影模組，其特征在于，所述光源為均勻發光的面光源，所述光發散元件設置有所述光學微結構的出光面上位于每個所述光學微結構之間的部分鍍有遮光膜層，以使得所述發光單元所發出的光束僅從所述光發散元件的光學微結構射出。

8.如權利要求7所述的光學投影模組，其特征在于，所述光源為單孔寬面型垂直腔面發射激光器。

9.一種感測裝置，，其用于感測被測目標物的三維信息，其包括感測模組及如權利要求1至8中任意一項所述的光學投影模組，所述感測模組用于感測所述光學模組在被測目標物上投射的預設圖案并通過分析所述預設圖案的圖像獲取被測標的物的三維信息。

10.一種設備，包括權利要求9所述的感測裝置，所述設備根據所述感測裝置所感測到的被測目標物的三維信息來執行相應功能。