[發(fā)明專(zhuān)利]基板處理方法、存儲(chǔ)介質(zhì)以及原料氣體供給裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811525037.0
• 申請(qǐng)日: 2018-12-13
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN109913853B
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-05-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 孟賢男;崔弩禮;關(guān)戶(hù)幸一;山口克昌;小森榮一
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): C23C16/455
• 分類(lèi)號(hào): C23C16/455;C23C16/14;C23C16/52
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

本發(fā)明提供一種基板處理方法、存儲(chǔ)介質(zhì)以及原料氣體供給裝置。在開(kāi)始晶圓(100)的處理前進(jìn)行的模擬制程中，測(cè)定載氣的實(shí)際流量(C_a、C_b)和氣化原料的實(shí)際流量(Pr_a、Pr_b)，求出表示載氣與氣化原料之間的相關(guān)度的校正系數(shù)(K₀)。而且，使用校正系數(shù)(K₀)來(lái)調(diào)整載氣的流量以使氣化原料的流量成為目標(biāo)值。并且，根據(jù)第n?1張和第n張晶圓的處理時(shí)的載氣的實(shí)際流量(C_n?1、C_n)和氣化原料的實(shí)際流量(Pr_n?1、Pr_n)來(lái)求出表示載氣的流量的增減量與氣化原料的流量的增減量之間的相關(guān)度的校正系數(shù)(K_n)，向第n+1張晶圓供給使用校正系數(shù)(K_n)對(duì)流量以成為目標(biāo)值的方式進(jìn)行了調(diào)整的氣化原料來(lái)進(jìn)行處理。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種使固體原料或液體原料氣化并且供給到基板處理部來(lái)對(duì)基板進(jìn)行處理的技術(shù)。

背景技術(shù)

作為半導(dǎo)體制造工藝之一的成膜處理，存在所謂的ALD(Atomic LayerDeposition：原子層沉積)、CVD(ChemicalVapor Deposition：化學(xué)氣相沉積)等，ALD是交替地供給原料氣體和用于對(duì)原料氣體進(jìn)行例如氧化、氮化或者還原的反應(yīng)氣體的處理，CVD是使原料氣體在氣相中分解或者與反應(yīng)氣體發(fā)生反應(yīng)的處理。作為在這樣的成膜處理中使用的原料氣體，有時(shí)使用使固體原料升華得到的氣體，以提高成膜后的結(jié)晶的致密度并且極力減少在基板取得的雜質(zhì)的量，例如在形成配線(xiàn)膜時(shí)使用該氣體。

作為使用固體原料的原料供給裝置，已知如下一種結(jié)構(gòu)：向被加熱器包圍的原料容器內(nèi)供給非活性氣體例如氮?dú)怏w的載氣，將升華得到的氣體與載氣一同經(jīng)由氣體供給路徑供給到工藝腔室內(nèi)。像這樣，原料氣體是載氣與氣體的原料混合而成的，在控制形成于基板的膜的厚度、膜質(zhì)等時(shí)，需要準(zhǔn)確地調(diào)節(jié)原料的量(原料氣體中包含的氣化原料的實(shí)際流量)。

以往，如專(zhuān)利文獻(xiàn)1所示，為了使原料氣體的流量穩(wěn)定，預(yù)先在控制部中存儲(chǔ)有表示載氣的流量的增減量與在載氣增減時(shí)捕捉到的氣化原料的增減量之間的相關(guān)度的校正系數(shù)。而且，在氣化原料的實(shí)際流量發(fā)生了變化時(shí)，基于校正系數(shù)來(lái)計(jì)算與氣化原料的變動(dòng)量相應(yīng)的載氣的校正量，利用載氣的校正量來(lái)調(diào)整載氣的流量，由此控制氣化原料的流量。然而，在原料容器的固體原料的剩余量發(fā)生了變化時(shí)，表示載氣的流量的增減量與捕捉到的氣化原料的增減量之間的相關(guān)度的校正系數(shù)的值有發(fā)生變化的趨勢(shì)。因此，在原料容器的原料大幅地減少的情況下，需要停止裝置，重新設(shè)定新的校正系數(shù)。另外，在從空閑運(yùn)轉(zhuǎn)開(kāi)始進(jìn)行基板處理時(shí)，有時(shí)原料的氣化量暫時(shí)性地變多，有時(shí)氣化原料的流量相對(duì)于載氣的流量不遵循校正系數(shù)。因此，例如在基板組的初期的基板處理中存在氣化原料的供給量不穩(wěn)定的情況。

專(zhuān)利文獻(xiàn)1：日本特開(kāi)2017-66511號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的問(wèn)題

本發(fā)明是鑒于這樣的情況而完成的，其目的在于提供一種在向基板處理部供給氣化原料來(lái)對(duì)基板進(jìn)行處理時(shí)使向基板處理部供給的原料的供給量穩(wěn)定的技術(shù)。

用于解決問(wèn)題的方案