[發明專利]一種鈦合金保護涂層及其制備方法

有效

• 申請號: 201811524946.2
• 申請日: 2018-12-13
• 公開（公告）號: CN109487226B
• 公開（公告）日: 2020-10-30
• 發明（設計）人: 汪瑞軍;詹華;李振東;王亦奇;徐天楊
• 申請（專利權）人: 北京金輪坤天特種機械有限公司;中國農業機械化科學研究院
• 主分類號: C23C14/48
• 分類號: C23C14/48;C23C14/06
• 代理公司: 北京高沃律師事務所 11569
• 代理人: 劉奇

1.一種鈦合金保護涂層，從內到外依次為類冶金混合界面層、CrN層、CrCN層和Cr摻雜的DLC層；所述類冶金混合界面層通過離子注入沉積法注入氮離子得到；所述類冶金混合界面層的厚度為0.01～1μm；所述CrN層的厚度為0.5～1.5μm；所述CrCN層的厚度為0.5～2.0μm；所述Cr摻雜的DLC層的厚度為1.0～2.5μm。

2.一種權利要求1所述的鈦合金保護涂層的制備方法，包括如下步驟：

(1)在鈦合金基體表面進行氮離子注入，得到類冶金混合界面層；

(2)在所述類冶金混合界面層表面，通過等離子體增強物理氣相沉積法依次沉積CrN層、CrCN層和Cr摻雜的DLC層，得到鈦合金保護涂層。

3.根據權利要求2所述的制備方法，其特征在于，所述氮離子注入的氮氣流量為50～150sccm，氮氣氣壓為0.2～0.8Pa，射頻功率為0.5～1.5kW，注入電壓為20～40kV，注入頻率為50～300Hz，注入脈寬為10～50μs，注入時間為2～8h。

4.根據權利要求2所述的制備方法，其特征在于，沉積所述CrN層時的真空室氣壓為0.1～1.0Pa，氬氣流量為100～300sccm，氮氣流量為(0sccm,100sccm]，鉻靶電流為5～20A，偏壓為-150～-60V，沉積時間為30～90min。

5.根據權利要求2所述的制備方法，其特征在于，沉積所述CrCN層時的真空室氣壓為0.1～1.0Pa，氬氣流量為100～300sccm，氮氣流量為(0sccm,100sccm]，甲烷氣體流量為(0sccm,150sccm]，鉻靶電流為5～20A，偏壓為-150～-60V，沉積時間為30～120min。

6.根據權利要求2所述的制備方法，其特征在于，沉積所述Cr摻雜的DLC層時的真空室氣壓為0.1～1.0Pa，氬氣流量為100～300sccm，甲烷氣體流量為(0sccm,150sccm]，鉻靶電流為5～20A，偏壓為-150～-60V，沉積時間為60～240min。