[發(fā)明專利]一種鈦合金保護(hù)涂層及其制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811524946.2
• 申請(qǐng)日: 2018-12-13
• 公開（公告）號(hào): CN109487226B
• 公開（公告）日: 2020-10-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 汪瑞軍;詹華;李振東;王亦奇;徐天楊
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京金輪坤天特種機(jī)械有限公司;中國農(nóng)業(yè)機(jī)械化科學(xué)研究院
• 主分類號(hào): C23C14/48
• 分類號(hào): C23C14/48;C23C14/06
• 代理公司: 北京高沃律師事務(wù)所 11569
• 代理人: 劉奇

1.一種鈦合金保護(hù)涂層，從內(nèi)到外依次為類冶金混合界面層、CrN層、CrCN層和Cr摻雜的DLC層；所述類冶金混合界面層通過離子注入沉積法注入氮離子得到；所述類冶金混合界面層的厚度為0.01～1μm；所述CrN層的厚度為0.5～1.5μm；所述CrCN層的厚度為0.5～2.0μm；所述Cr摻雜的DLC層的厚度為1.0～2.5μm。

2.一種權(quán)利要求1所述的鈦合金保護(hù)涂層的制備方法，包括如下步驟：

(1)在鈦合金基體表面進(jìn)行氮離子注入，得到類冶金混合界面層；

(2)在所述類冶金混合界面層表面，通過等離子體增強(qiáng)物理氣相沉積法依次沉積CrN層、CrCN層和Cr摻雜的DLC層，得到鈦合金保護(hù)涂層。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法，其特征在于，所述氮離子注入的氮?dú)饬髁繛?0～150sccm，氮?dú)鈿鈮簽?.2～0.8Pa，射頻功率為0.5～1.5kW，注入電壓為20～40kV，注入頻率為50～300Hz，注入脈寬為10～50μs，注入時(shí)間為2～8h。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法，其特征在于，沉積所述CrN層時(shí)的真空室氣壓為0.1～1.0Pa，氬氣流量為100～300sccm，氮?dú)饬髁繛?0sccm,100sccm]，鉻靶電流為5～20A，偏壓為-150～-60V，沉積時(shí)間為30～90min。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法，其特征在于，沉積所述CrCN層時(shí)的真空室氣壓為0.1～1.0Pa，氬氣流量為100～300sccm，氮?dú)饬髁繛?0sccm,100sccm]，甲烷氣體流量為(0sccm,150sccm]，鉻靶電流為5～20A，偏壓為-150～-60V，沉積時(shí)間為30～120min。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法，其特征在于，沉積所述Cr摻雜的DLC層時(shí)的真空室氣壓為0.1～1.0Pa，氬氣流量為100～300sccm，甲烷氣體流量為(0sccm,150sccm]，鉻靶電流為5～20A，偏壓為-150～-60V，沉積時(shí)間為60～240min。