[發明專利]內襯組件及反應腔室

有效

• 申請號: 201811519183.2
• 申請日: 2018-12-12
• 公開（公告）號: CN111312575B
• 公開（公告）日: 2022-09-16
• 發明（設計）人: 李興存;光娟亮
• 申請（專利權）人: 北京北方華創微電子裝備有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;H01L21/67
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 彭瑞欣;張天舒

1.一種內襯組件，其特征在于，包括內襯和多個調節單元，其中，

所述內襯用于環繞在反應腔室的側壁內側，所述內襯包括與多個所述調節單元一一對應的多個子內襯，多個所述子內襯沿周向間隔設置；

每個所述調節單元的第一端均與對應的所述子內襯連接，該調節單元的第二端用于接地，通過設置多個所述調節單元的電容值以使各個所述子內襯的容抗相等。

2.根據權利要求1所述的內襯組件，其特征在于，還包括多個連接柱，多個所述連接柱與多個所述子內襯一一對應，且所述連接柱連接在所述子內襯的底部；所述調節單元的所述第一端通過所述連接柱與所述子內襯連接。

3.根據權利要求1所述的內襯組件，其特征在于，所述調節單元包括可變電容或固定電容。

4.根據權利要求3所述的內襯組件，其特征在于，所述可變電容的調節范圍為500pF～5000pF，所述固定電容的取值范圍為500pF～5000pF。

5.根據權利要求2所述的內襯組件，其特征在于，相鄰兩個所述子內襯之間在周向上均具有第一間隙，所述第一間隙的寬度的取值范圍為0.5mm～2mm。

6.一種反應腔室，其特征在于，包括腔室本體和權利要求1-5中任一項所述的內襯組件，其中，內襯位于所述腔室本體中。

7.根據權利要求6所述的反應腔室，其特征在于，所述腔室本體的底壁上設有多個通孔，多個連接柱一一對應的穿過所述通孔并朝向所述腔室本體外延伸，在所述通孔和所述連接柱之間還設置有用于固定所述連接柱的介質環。

8.根據權利要求7所述的反應腔室，其特征在于，所述反應腔室還包括屏蔽罩，所述屏蔽罩從外部罩設在腔體的底部，所述調節單元通過所述屏蔽罩接地。

9.根據權利要求8所述的反應腔室，其特征在于，所述內襯的外周壁與所述腔室本體的內周壁之間具有第二間隙，所述第二間隙的寬度范圍為0.5mm～2mm。

10.根據權利要求9所述的反應腔室，其特征在于，所述腔室本體內設有聚焦環，所述內襯的內周壁與所述聚焦環的外周壁之間具有第三間隙，所述第三間隙的寬度小于2mm。