[發明專利]一種新型窯變釉及其制備工藝在審
| 申請號： | 201811518487.7 | 申請日： | 2018-12-12 |
| 公開（公告）號： | CN109455931A | 公開（公告）日： | 2019-03-12 |
| 發明（設計）人： | 童新田;謝少元;張支清 | 申請（專利權）人： | 湖南德興瓷業有限公司 |
| 主分類號： | C03C8/00 | 分類號： | C03C8/00;C04B41/89 |
| 代理公司： | 深圳市千納專利代理有限公司 44218 | 代理人： | 何耀煌 |
| 地址： | 412200 湖南省*** | 國省代碼： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 釉料 三氧化二鋁 二氧化硅 制備工藝 氧化鈣 氧化鉀 氧化鈉 氧化鋅 窯變釉 質量份 底釉 碳酸鋇 氧化鎂 面釉 釉色 燒制 和面 | ||
【權利要求書】：
1.一種新型窯變釉，其特征在于，它包括底釉和面釉；其中，底釉所使用的底釉料中含有的組分及各組分質量份如下：
氧化鎂：0.1-0.3份，二氧化硅：59-61份，三氧化二鋁：19-21份，氧化鉀：2-4份，氧化鈉：2-4份，氧化鈣：13-15份，氧化鋅：10-12份；
面釉所使用的面釉料中含有的組分及各組分質量份如下：
二氧化硅：29-31份，三氧化二鋁：25-27份，氧化鉀：25-27份，氧化鈉：12-14份，氧化鈣：9-11份，氧化鋅：4-6份，碳酸鋇：3-5份。
2.一種如權利要求1所述的新型窯變釉的制備工藝，其特征在于工藝的步驟中含有：
S1：底釉漿和面釉漿的分別制備；其中，底釉漿的制備過程如下：
按照底釉料的各組分及各組分質量份備料；按照底釉料：球：水的質量比＝1：(1.4～1.6)：(0.5～0.7)，混合球磨19～22小時，球磨后的釉料過篩，然后調成波美度為40～45的底釉漿；
面釉漿的制備過程如下：
按照面釉料的各組分及各組分質量份備料；按照面釉料：球：水的質量比＝1：(1.4～1.6)：(0.5～0.7)，混合球磨19～22小時，球磨后的釉料過篩，然后調成波美度為40～45的面釉漿；
S2：取干凈外面的素坯，采用底釉漿先給坯體上底釉，再采用面釉漿在底釉上施面釉，在1200℃～1300℃的環境下燒制9～12小時，得成品。
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