[發明專利]閥門檢測系統在審
| 申請號： | 201811515513.0 | 申請日： | 2018-12-12 |
| 公開（公告）號： | CN109406535A | 公開（公告）日： | 2019-03-01 |
| 發明（設計）人： | 馮平;鄒志林;丁禮俊;魏旭峰;閔玉龍;彭松賢;王海賓;賴俊明;王成銘;李亞碩;武紅;樓慈波;曹建建;邵逸斌;方旭;馬曉偉 | 申請（專利權）人： | 中廣核核電運營有限公司;浙江華安激光科技有限公司 |
| 主分類號： | G01N21/88 | 分類號： | G01N21/88 |
| 代理公司： | 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人： | 李文淵 |
| 地址： | 518048 廣東省深圳市福*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 掃描信息 圖像處理裝置 閥門檢測 控制裝置 閥門檢測系統 目標閥門 掃描裝置 控制掃描裝置 檢測圖像 閥門 掃描控制裝置 參考平面 閥門密封 獲取目標 距離信息 圖像獲取 運動狀態 掃描 檢測 | ||
1.一種閥門檢測系統，其特征在于，所述系統包括：控制裝置、設置在所述掃描控制裝置上的掃描裝置和圖像處理裝置；所述控制裝置、所述掃描裝置與所述圖像處理裝置相互連接；
所述控制裝置，用于控制所述掃描裝置的運動狀態；
所述掃描裝置，用于獲取目標閥門的掃描信息，并將所述掃描信息發送給所述圖像處理裝置；所述掃描信息包括閥門密封面上各點到參考平面的距離信息；
所述圖像處理裝置，用于根據所述掃描信息，生成所述目標閥門的檢測圖像。
2.根據權利要求1所述系統，其特征在于，所述掃描裝置包括：光源模塊、干涉模塊及功率譜分析模塊；所述光源模塊與所述干涉模塊連接，所述干涉模塊與所述功率譜分析模塊連接；
所述光源模塊用于發射光信號；
所述干涉模塊用于接收所述光信號，并根據所述光信號生成干涉光譜信號；
所述功率譜分析模塊用于根據所述目標閥門反射回的干涉光譜信號，獲取所述掃描信息。
3.根據權利要求2所述系統，其特征在于，所述光信號為寬光譜掃描光源。
4.根據權利要去1-3任一項所述系統，其特征在于，所述控制裝置包括控制器和與所述控制器連接的機械臂，所述機械臂的執行端與所述掃描裝置連接；
所述機械臂用于根據所述控制器發送的指令，控制所述掃描裝置的運動狀態。
5.根據權利要求4所述系統，其特征在于，所述機械臂包括旋轉臂和伸縮臂；
所述旋轉臂用于控制所述掃描裝置進行旋轉運動；
所述伸縮臂用于控制所述掃描裝置進行伸縮運動。
6.根據權利要求5所述系統，其特征在于，所述旋轉運動包括鏡像運動和/或環繞運動；所述伸縮運動包括與閥門檢測面垂直的運動和/或與閥門檢測面平行的運動。
7.根據權利要求1-3任一項所述系統，其特征在于，所述圖像處理裝置包括：數據采集模塊、數據處理模塊及圖像顯示模塊；所述數據采集模塊與所述數據處理模塊連接，所述數據處理模塊與所述圖像顯示模塊連接；
所述數據采集模塊，用于獲取所述掃描信息，并將所述掃描信息轉換為數字信號；
所述數據處理模塊，用于對所述數字信號進行處理，獲取所述目標閥門的檢測圖像；
所述圖像顯示模塊，用于顯示所述檢測圖像。
8.根據權利要求7所述系統，其特征在于，所述圖像處理裝置還包括控制模塊；
所述控制模塊用于根據選擇信息，控制所述掃描裝置獲取所述目標閥門不同區域的掃描信息；所述選擇信息包括用戶選擇的所述檢測圖像中的區域信息。
9.根據權利要求1-3任一項所述系統，其特征在于，所述系統還包括遠程控制裝置，所述遠程控制裝置與所述控制裝置連接；所述遠程控制裝置用于通過所述控制裝置控制所述掃描裝置獲取所述掃描信息。
10.根據權利要求1-3任一項所述系統，其特征在于，所述系統還包括監控裝置，所述監控裝置與所述掃描裝置連接；所述視頻監控裝置用于獲取所述目標閥門的監控圖像，并存儲所述監控圖像。
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