[發(fā)明專利]超高溫高發(fā)射率紅外輻射涂層及其制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811514206.0
• 申請日: 2018-12-12
• 公開（公告）號: CN109321008B
• 公開（公告）日: 2020-11-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 單張飛;程旭東;劉富生
• 申請（專利權(quán)）人: 郴州市泰益表面涂層技術(shù)有限公司
• 主分類號: C09D1/00
• 分類號: C09D1/00;C09D5/03;C23C4/134;C23C4/11
• 代理公司: 郴州大天知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 43212
• 代理人: 徐起堂

本發(fā)明公開了一種超高溫高發(fā)射率紅外輻射涂層，所述涂層以HfO₂粉末和稀土氧化物Tb₄O₇粉末為原料制備而成。所述原料粉末的重量份為HfO₂粉末為70?90、稀土氧化物Tb₄O₇粉末為10?30。還提供了一種超高溫高發(fā)射率紅外輻射涂層的制備方法，包括如下步驟：a.將原料粉末HfO₂粉末和稀土氧化物Tb₄O₇粉末加入去離子水和粘接劑，混合，膠磨，得到料漿；b.對料漿進行造粒，制得具有高球形度的粉末顆粒；c.將具有高球形度的粉末顆粒進行高溫焙燒，高溫焙燒后篩分；d.將焙燒篩分后的粉末噴涂在待噴涂件上，得到高發(fā)射率紅外輻射涂層。本發(fā)明的涂層具有良好的紅外發(fā)射率和相穩(wěn)定性。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種太陽能吸收涂層，尤其涉及一種超高溫高發(fā)射率紅外輻射涂層。還涉及一種該涂層的制備方法。

背景技術(shù)

紅外輻射涂層是一種廣泛應(yīng)用于醫(yī)療保健、新型建筑材料、工業(yè)爐窯等領(lǐng)域的功能性材料。隨著科技的飛速發(fā)展，紅外輻射涂層也向著高端應(yīng)用的方向發(fā)展，近些年也在航空航天、軍事高端裝備、新型電子器件等領(lǐng)域得到了應(yīng)用。

服役溫度下的紅外發(fā)射率和相穩(wěn)定性是紅外輻射涂層的兩個關(guān)鍵性能指標(biāo)。

現(xiàn)有技術(shù)中，鐵氧體體系、鈣鈦礦體系、尖晶石體系等是常見的紅外輻射涂層材料，它們在1000℃以下均具有較為優(yōu)異的紅外發(fā)射率和相穩(wěn)定性，但當(dāng)使用溫度提升至1200℃以上時，其紅外發(fā)射率下降明顯且相結(jié)構(gòu)不再穩(wěn)定，如元素?fù)]發(fā)、結(jié)構(gòu)分解等。

而超高溫陶瓷，比如HfO₂、HfB₂、ZrB₂等由于具有優(yōu)異的高溫相結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性，十分適合作為高溫高發(fā)射率紅外輻射涂層的基材，但是，其全發(fā)射率有待提高。而想提高其全發(fā)射率，必須提高短紅外波段的吸收系數(shù)，降低散射系數(shù)。

目前，現(xiàn)有技術(shù)還沒有可行技術(shù)手段解決上述技術(shù)問題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種超高溫高發(fā)射率紅外輻射涂層，以克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷。還提供一種該涂層的制備方法。

為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明的超高溫高發(fā)射率紅外輻射涂層，以HfO₂粉末和稀土氧化物Tb₄O₇粉末為原料制備而成。

所述原料粉末的重量份為HfO₂粉末為70-90、稀土氧化物Tb₄O₇粉末為10-30。

本發(fā)明提供的一種超高溫高發(fā)射率紅外輻射涂層的制備方法，包括如下步驟：

a.將原料粉末HfO₂粉末和稀土氧化物Tb₄O₇粉末加入去離子水和粘接劑，混合，膠磨，得到料漿；

b.對料漿進行造粒，制得具有高球形度的粉末顆粒；

c.將具有高球形度的粉末顆粒進行高溫焙燒，高溫焙燒后篩分；

d.將焙燒篩分后的粉末噴涂在待噴涂件上，得到高發(fā)射率紅外輻射涂層。

所述原料粉末的重量份為HfO₂粉末為70-90、稀土氧化物Tb₄O₇粉末為10-30。

所述粘接劑與原料粉末的質(zhì)量比為1-5%。

所述去離子水與原料粉末的體積比為1-2﹕1，研磨時間不少于40min。