[發(fā)明專利]高溫下具有優(yōu)良性能的超薄發(fā)泡材料及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811513583.2 | 申請日: | 2018-12-11 |
| 公開(公告)號: | CN109651680A | 公開(公告)日: | 2019-04-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 孫凱;魏瓊 | 申請(專利權(quán))人: | 廣德祥源新材科技有限公司 |
| 主分類號: | C08L23/06 | 分類號: | C08L23/06;C08L23/08;C08K13/06;C08K3/34;C08K3/26;C08K3/22;C08J9/10;C08J3/28;C08J3/24 |
| 代理公司: | 武漢東喻專利代理事務(wù)所(普通合伙) 42224 | 代理人: | 方可 |
| 地址: | 242200 安徽*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 發(fā)泡材料 優(yōu)良性能 制備 超高分子量聚乙烯樹脂 致密 聚合物材料 乙烯共聚物 重量份數(shù)比 材料使用 超薄材料 反復(fù)彎曲 改性填料 橫向收縮 壓縮形變 縱向收縮 常溫下 泡孔 泡棉 變形 測試 制造 | ||
1.一種高溫下具有優(yōu)良性能的超薄發(fā)泡材料,其特征在于,所述發(fā)泡材料的原料以及各個原料按重量份數(shù)計包括:
45~90份的超高分子量聚乙烯樹脂,
5~30份的乙烯共聚物,
10~30改性填料,
2~20份的改性發(fā)泡劑,
0.5~3份的加工助劑,
其中,所述改性發(fā)泡劑由發(fā)泡劑和催化劑組成,催化劑占比改性發(fā)泡劑總重量的0.5~15%,
所述超薄發(fā)泡材料具有如下性能:
70℃測試時,平均拉伸強度不小于1.5Mpa,70℃測試的壓縮永久變形≤10%,180°反復(fù)彎曲1萬次無變形。
2.如權(quán)利要求1所述的高溫下具有優(yōu)良性能的超薄發(fā)泡材料,其特征在于,所述發(fā)泡材料的原料以及各個原料按重量份數(shù)計包括:
50~75份的超高分子量聚乙烯樹脂
10~15份的乙烯共聚物
10~15改性填料
4~8份的改性發(fā)泡劑
0.5~3份的加工助劑
其中,所述改性發(fā)泡劑由發(fā)泡劑和催化劑組成,催化劑占比改性發(fā)泡劑總重量的1~2%。
3.如權(quán)利要求2所述的高溫下具有優(yōu)良性能的超薄發(fā)泡材料,其特征在于,所述乙烯共聚物的拉伸強度為10~40MPa、斷裂伸長率為1000~2000%、熔融指數(shù)為0.5~4g/10min。
4.如權(quán)利要求3所述的高溫下具有優(yōu)良性能的超薄發(fā)泡材料,其特征在于,所述乙烯共聚物為乙烯-醋酸乙烯共聚物、乙烯辛烯共聚物、硅橡膠和三元乙丙膠中的任意一種或多種,
所述改性填料為高嶺土、碳酸鈣和二氧化鈦的任意一種或多種。
5.如權(quán)利要求4所述的高溫下具有優(yōu)良性能的超薄發(fā)泡材料,其特征在于,所述發(fā)泡材料厚度為0.1~0.3mm、發(fā)泡倍率為3~50、邵氏硬度C小于27。
6.如權(quán)利要求5所述的高溫下具有優(yōu)良性能的超薄發(fā)泡材料,其特征在于,所述發(fā)泡材料具有如下性能:25%壓縮變形下的應(yīng)力≤0.05MPa,50%壓縮變形下的應(yīng)力≤0.20MPa,75%壓縮變形下的應(yīng)力≤0.50MPa,
所述發(fā)泡材料最大壓縮比≥0.70,縱向收縮≤1%,橫向收縮≤0.5%。
7.如權(quán)利要求6所述的高溫下具有優(yōu)良性能的超薄發(fā)泡材料,其特征在于,所述發(fā)泡材料具有閉孔結(jié)構(gòu)。
8.一種制備如權(quán)利要求1-7之一所述具有優(yōu)良高溫性能的超薄發(fā)泡材料的制備方法,其特征在于,其包括以下步驟:
(1)將超高分子量聚乙烯樹脂,乙烯共聚物,改性填料,改性發(fā)泡劑,加工助劑一起混煉混合,并在設(shè)定溫度下進行造粒加工;
(2)將步驟(1)所造的母粒擠出成型,并勻速擠出形成片材;
(3)將擠出成型的片材放置于輻照源下進行輻照交聯(lián),所述輻照源包括高能電子加速器、紫外線,輻照劑量為20-50Mrad;
(4)將交聯(lián)后的片材放置于發(fā)泡爐中,在溫度220-280℃下進行發(fā)泡,獲得厚度范圍在0.3-0.6mm范圍內(nèi)的半成品;
(5)將上述半成品通過熱壓縮拉伸裝置進行拉伸,獲得厚度范圍在0.1-0.3mm范圍內(nèi)的超薄片。
9.如權(quán)利要求8所述的方法,其特征在于,步驟(3)中,電子輻照交聯(lián)的電子能量為0.5~3.0MeV,輻照劑量為30~50兆拉德,進行電子輻照交聯(lián)的發(fā)泡體基片片材層數(shù)為4~8層,掃面寬度為800~1000mm。
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