[發明專利]一種基板及制備方法有效
| 申請號： | 201811510414.3 | 申請日： | 2018-12-11 |
| 公開（公告）號： | CN109656047B | 公開（公告）日： | 2020-08-04 |
| 發明（設計）人： | 張軍 | 申請（專利權）人： | 深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/1333 | 分類號： | G02F1/1333;G02F1/1335;G02F1/1339 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黃威 |
| 地址： | 518132 廣東省深*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 制備 方法 | ||
1.一種基板，其特征在于，所述基板包括：
襯底基板；
設置在所述襯底基板上的像素陣列單元框；
設置在所述襯底基板上且自下而上依次設置的光學膜、彩色濾光片和氧化銦錫薄膜；
所述光學膜的材料包括SiOx或SiNx和SiOx的混合材料；且當所述光學膜為SiO2光學膜時，所述SiO2光學膜的厚度為
2.根據權利要求1所述的基板，其特征在于，所述像素陣列單元框設置在所述光學膜和所述襯底基板之間。
3.根據權利要求1所述的基板，其特征在于，所述像素陣列單元框設置在所述氧化銦錫薄膜之上。
4.根據權利要求2所述的基板，其特征在于，所述像素陣列單元框與所述光學膜之間還設置有RGB色阻像素層。
5.根據權利要求1所述的基板，其特征在于，所述基板還包括支撐柱。
6.根據權利要求5所述的基板，其特征在于，所述支撐柱設置在所述氧化銦錫薄膜上。
7.一種基板的制作方法，其特征在于，包括：
步驟S100，通過黑色矩陣工藝制程，在襯底基板上制備出像素陣列單元框，
步驟S110，在步驟S100基礎上制備出一定厚度的SiOx或者SiOx和SiNx結構的光學膜，并在所述光學膜上制備出彩色濾光片和氧化銦錫薄膜，其中所述光學膜為SiO2光學膜時，所述SiO2光學膜的厚度為
步驟S120，在步驟S110基礎上制備主副支撐柱。
8.根據權利要求7所述的基板的制作方法，其特征在于，所述步驟S100與所述步驟S110之間還包括：
步驟S200，在步驟S100的基礎上制備出RGB色阻像素層。
9.根據權利要求7所述的基板制作方法，其特征在于，所述步驟S100與所述步驟S110的制備順序可互換。
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