[發(fā)明專利]一種基于分光鏡分光的SP激發(fā)照明超分辨光刻鏡頭和裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811509704.6
• 申請日: 2018-12-11
• 公開（公告）號: CN109613801A
• 公開（公告）日: 2019-04-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 羅先剛;王長濤;趙承偉;蒲明博;李雄
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種基于分光鏡分光的SP激發(fā)照明超分辨光刻裝置，其特征在于：該裝置包括用于保護(hù)光刻裝置的空氣凈化系統(tǒng)(1)、用于產(chǎn)生i線紫外曝光光束的光源(2)、用于激發(fā)照明的分光鏡分光系統(tǒng)(3)、用于承載表面等離子體成像器件的掩模承載模塊(4)和用于承載基片的工作臺(tái)(5)；

所述的工作臺(tái)(5)包括XY軸精密移動(dòng)平臺(tái)(18)、手動(dòng)升降臺(tái)(16)、承片臺(tái)(15)和基片(12)，其中手動(dòng)升降臺(tái)(16)安裝在XY軸精密移動(dòng)平臺(tái)(18)上，承片臺(tái)(15)安裝在手動(dòng)升降臺(tái)(16)上，基片(12)安放在承片臺(tái)(15)上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于分光鏡分光的SP激發(fā)照明超分辨光刻裝置，其特征在于：安裝時(shí)，光源(2)、分光鏡分光系統(tǒng)(3)、掩模承載模塊(4)和工作臺(tái)(5)需安裝同光軸，分光鏡分光系統(tǒng)(3)安裝在掩模支架(17)上表面，XY軸精密移動(dòng)平臺(tái)(18)安裝在掩模支架(17)的下部，基片(12)上表面到表面等離子體成像器件(11)下表面的可調(diào)節(jié)距離為0～25mm，掩模支架(17)與光源(2)安裝在同一隔振平臺(tái)(19)上。

3.一種基于分光鏡分光的SP激發(fā)照明超分辨光刻鏡頭，其特征在于：該鏡頭包括分光鏡分光系統(tǒng)(3)和掩模承載模塊(4)；

所述的分光鏡分光系統(tǒng)(3)包括分光系統(tǒng)支架(6)、分光鏡(7)、左反射鏡(8)、中反射鏡(9)和右反射鏡(10)，其中左反射鏡(8)、中反射鏡(9)分別通過各自的鏡框安裝在分光系統(tǒng)支架(6)上；

所述的掩模承載模塊(4)包括掩模支架(17)、旋轉(zhuǎn)支座(14)、掩模支板(13)和表面等離子體成像器件(11)；其中旋轉(zhuǎn)支座(14)安裝在掩模支架(17)上，掩模支板(13)通過銷釘與旋轉(zhuǎn)支座(14)連接，表面等離子體成像器件(11)安裝在掩模支板(13)上；

所述的SP激發(fā)照明超分辨光刻鏡頭工作時(shí)，光束進(jìn)入分光鏡分光系統(tǒng)(3)入射到分光鏡(7)上進(jìn)行分光；分光鏡(7)為半反半透鏡，光束入射到分光鏡(7)后，一半被反射到左反射鏡(8)上；另一半透射到中反射鏡(9)上，從中反射鏡(9)反射出來的光束，再次入射到右反射鏡(10)上；兩個(gè)分光束被左反射鏡(9)、右反射鏡(10)反射后，光束從分光鏡分光系統(tǒng)(3)出來，重疊入射到掩模承載模塊(4)的表面等離子體成像器件(11)上。