[發(fā)明專利]具有配合的防護(hù)罩和軸排氣通道的等速接頭有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811496927.3 | 申請(qǐng)日： | 2018-12-07 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN109915495B | 公開(kāi)（公告）日： | 2022-05-13 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 尼克·杜比爾;羅伯特·J·魏納;邁克爾·霍普森 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 尼亞布科知識(shí)產(chǎn)權(quán)控股有限責(zé)任公司 |
| 主分類號(hào)： | F16D3/22 | 分類號(hào)： | F16D3/22;F16D3/84 |
| 代理公司： | 北京康信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240 | 代理人： | 陳鵬;王博 |
| 地址： | 美國(guó)密*** | 國(guó)省代碼： | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 具有 配合 防護(hù)罩 排氣 通道 等速 接頭 | ||
1.一種等速接頭，包括：
軸，其具有形成于所述軸上的軸槽；
內(nèi)圈，其耦接到所述軸；
防護(hù)罩組件，其接合所述軸；以及
一對(duì)凹槽，其軸向地形成于所述防護(hù)罩組件中，其中，所述軸槽在所述一對(duì)凹槽之間提供連通，以允許在所述等速接頭內(nèi)堆積的氣體排出到大氣中。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等速接頭，其中，所述軸槽是形成于所述軸的外表面中的環(huán)形槽。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等速接頭，其中，所述軸槽是形成于所述軸的外表面中的半環(huán)形槽。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等速接頭，其中，所述軸槽螺旋地形成于所述軸的外表面中。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等速接頭，其中，所述一對(duì)凹槽相對(duì)于所述防護(hù)罩組件彼此徑向地相對(duì)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等速接頭，其中，所述軸槽與所述一對(duì)凹槽中的第一凹槽的一端和所述一對(duì)凹槽中的第二凹槽的一端對(duì)準(zhǔn)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等速接頭，其中，所述一對(duì)凹槽中的第一凹槽與環(huán)境直接流體連通。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等速接頭，其中，所述一對(duì)凹槽中的第一凹槽與由形成于所述防護(hù)罩組件的一端的隔板包圍的內(nèi)部區(qū)域直接流體連通。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等速接頭，其中，所述一對(duì)凹槽形成于所述防護(hù)罩組件的與所述軸直接接合的部分中。
10.一種等速接頭，包括：
外圈，其限定腔室；
內(nèi)圈，其接收于所述外圈的所述腔室中；
軸，其耦接到所述內(nèi)圈并從所述內(nèi)圈向外延伸；
防護(hù)罩組件，其接合所述外圈和所述軸以包圍所述腔室；以及
單個(gè)連續(xù)的通道，其在所述腔室和環(huán)境之間提供直接的流體連通以允許在所述等速接頭內(nèi)堆積的氣體排出到大氣中，或者在所述腔室和由形成于所述防護(hù)罩組件的一端的隔板包圍的內(nèi)部區(qū)域之間提供直接的流體連通以允許在所述等速接頭內(nèi)堆積的氣體排出到大氣中，所述通道的第一部分形成在所述防護(hù)罩組件中，并且所述通道的第二部分直接形成在所述軸上。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的等速接頭，其中，所述防護(hù)罩組件包括防護(hù)罩蓋和防護(hù)罩件，其中，所述防護(hù)罩蓋的第一端接合所述外圈的外表面，所述防護(hù)罩蓋的第二端從所述外圈向外延伸，并且其中，所述防護(hù)罩件的第一端接合所述防護(hù)罩蓋的第二端，并且所述防護(hù)罩件的第二端接合所述軸。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的等速接頭，其中，所述通道的所述第一部分形成在所述防護(hù)罩件的與所述軸接合的所述第二端中。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的等速接頭，其中，所述通道的所述第一部分包括第一凹槽和第二凹槽，所述第一凹槽沿著所述防護(hù)罩組件的軸向方向在所述防護(hù)罩組件的內(nèi)表面中形成，所述第二凹槽沿著所述防護(hù)罩組件的軸向方向在所述防護(hù)罩組件的內(nèi)表面中形成，其中，所述第一凹槽相對(duì)于所述第二凹槽成角度地偏移且線性地偏移。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的等速接頭，其中，所述第一凹槽與所述第二凹槽徑向地相對(duì)。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的等速接頭，其中，所述通道的所述第二部分在所述第一凹槽和所述第二凹槽之間延伸。
16.根據(jù)權(quán)利要求10所述的等速接頭，其中，所述通道的所述第二部分環(huán)形地形成于所述軸上、半環(huán)形地形成于所述軸上或螺旋地形成于所述軸上。
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