[發明專利]一種雙層手性結構的制備方法

有效

• 申請號: 201811490968.1
• 申請日: 2018-12-07
• 公開（公告）號: CN109490998B
• 公開（公告）日: 2021-03-16
• 發明（設計）人: 呂廣超;薛巖;張巖;劉凱;王天堃
• 申請（專利權）人: 吉林大學第一醫院
• 主分類號: G02B5/00
• 分類號: G02B5/00
• 代理公司: 重慶晟軒知識產權代理事務所(普通合伙) 50238
• 代理人: 孔玲瓏

1.一種雙層手性結構的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

準備玻璃基底(100)：準備ITO玻璃基底(100)并清洗吹干；

涂覆光刻膠：用甩膠機在所述基底(100)的表面甩兩層光刻膠層；

電子束曝光結構圖形：用圖形發生器設計矩形周期陣列結構，所述矩形周期陣列結構的每個單元結構由第一矩形(1)、第二矩形(2)和第三區域(3)組成，所述第一矩形(1)和第二矩形(2)垂直設置，且有一角相接，該每個單元結構除過第一矩形(1)和第二矩形(2)的部分為第三區域(3)；設計好圖形之后，用掃描電子顯微鏡曝光第一矩形(1)和第三區域(3)，對不同區域曝光的深度不同；所述第一矩形(1)曝光的深度為正膠(101)和負膠(102)相加的厚度，所述第三區域(3)曝光的深度為負膠(102)的厚度；

顯影定影：先用正膠顯影定影液進行處理，再用負膠顯影定影液進行處理；

蒸鍍金屬：采用電子束真空蒸發鍍膜儀垂直蒸鍍金屬材料(103)；

剝離光刻膠：用負膠剝離液對負膠(102)進行lift-off工藝。

2.根據權利要求1所述的雙層手性結構的制備方法，其特征在于，所述涂覆光刻膠的具體步驟為，首先用甩膠機在準備好的玻璃基底(100)上甩一層正膠(101)，烘干之后，再甩一層負膠(102)，烘干。

3.根據權利要求2所述的雙層手性結構的制備方法，其特征在于，所述甩膠機轉速設定為1000rpm～6000rpm，時間設定為60s。

4.根據權利要求1所述的雙層手性結構的制備方法，其特征在于，所述電子束蒸發鍍膜儀蒸鍍的金屬材料(103)的厚度小于正膠(101)的厚度。

5.根據權利要求1所述的雙層手性結構的制備方法，其特征在于，所述電子束蒸發鍍膜儀蒸鍍的金屬材料(103)的厚度等于正膠(101)的厚度。

6.根據權利要求4或5任一項所述的雙層手性結構的制備方法，其特征在于，所述金屬材料(103)為金，銀或銅。