[發明專利]基于微波處理的過濾器的清洗干燥工藝及裝置

有效

• 申請號: 201811488608.8
• 申請日: 2018-12-06
• 公開（公告）號: CN109999674B
• 公開（公告）日: 2021-09-10
• 發明（設計）人: 曾杰
• 申請（專利權）人: 曾杰
• 主分類號: B01D65/02
• 分類號: B01D65/02;F26B3/347
• 代理公司: 淄博啟智達知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 37280
• 代理人: 王燕

本發明涉及一種過濾器的清洗干燥工藝及裝置，具體涉及一種基于微波處理的過濾器的清洗干燥工藝及裝置。將過濾器轉移至微波干燥爐中；將進出口與微波干燥爐內設的進出氣管道分別接上；啟動微波電源進行加熱，啟動高壓噴射氣流，進行排氣，關閉高壓噴射氣流，當過濾器表面溫度低于35℃且超過10s時，干燥完成；關閉微波電源，排出微波干燥爐內的氣體；當過濾器表面溫度不高于30℃時，停止輸入空氣流，清洗干燥工藝完畢。本發明能有效去除過濾器和內部濾芯上的有機物殘余，能延長過濾器使用壽命，效率高、干燥速度快、能耗低、安全性高、控溫精度高，本發明同時提供其裝置，結構簡單，操作維護方便，基本免維護，適合工業化大生產。

技術領域

本發明涉及一種過濾器的清洗干燥工藝及裝置，具體涉及一種基于微波處理的過濾器的清洗干燥工藝及裝置。

背景技術

2018年全球膜市場將達到44億美元，用于半導體、平板顯示和光伏市場工業清洗領域的膜是過濾器市場中最大的部分，該領域中膜應用于各種純水的制備、用于清洗半導體芯片的純凈水、用于清洗硅晶圓的超凈高純化學品，以及用于機械化學拋光的拋光液等。

在整個半導體產業，處于產業鏈最上游的半導體設備產業起著舉足輕重的作用。在半導體設備市場中，據統計清洗工藝的次數占到了在整個芯片制造工藝步驟的三分之一，是芯片制造的重要環節。舉個例子，假設一條月產能在10萬片的DRAM產線，良率下降1％，將會導致企業一年3000-5000萬美元的損失。所以企業為了提高良率，必然會采用更多的清洗次數。

根據IC INSIGHT統計的2016-2020年全球晶圓產能報告顯示，到2020年底，預期全球12寸晶圓廠總數達到117座。從2018下半年，中國大陸已經建成的的12英寸晶圓生產廠共有13座。目前國內產線總投資額為2230.5億美元，按照半導體設備在晶圓制造產線70％、晶圓制造設備占半導體設備80％、清洗設備占晶圓制造設備成本的4.3％計算，僅國內生產線的清洗設備市場規模就高達53.71億美元。半導體行業每年消耗的晶圓超過104億平方英寸，2017年度收益76億美元。消耗量增長而利潤連年下降，生產商有很大的成本壓力，因此有使用新技術降成本的動力。

從技術上來看，常用清洗技術有濕法清洗和干法清洗兩大類，其中濕法清洗仍是工業中的主流，占清洗步驟的90％以上。中國濕電子化學品應用市場分為三大類：即半導體市場、光伏市場、平板顯示器市場。此類技術使用的濕電子化學品通常為超凈高純化學品，在純度和潔凈度方面的特別要求。其中超凈高純試劑一般要求化學試劑中控制顆粒的粒徑在0.5μm以下，雜質含量低于ppm級，是化學試劑中對顆粒控制、雜質含量要求最高的試劑。因此在即半導體工廠、光伏電池工廠和平板顯示器工廠里，要大量使用過濾器來降低雜質和污染的濃度，這些雜質主要包括三類：(1)金屬顆粒，(2)無機物顆粒，(3)有機殘余。

過濾器的生產工藝如下:

1.過濾膜處理：

1)過濾膜折疊，

2)過濾膜接縫，

3)過濾膜修剪；

2.濾芯組裝；

3.有機雜質清洗：

1)己烷浸泡清洗6-18小時，

2)旋轉干燥，

3)100％IPA浸泡3-9小時，

4)超純水沖洗10分鐘，

5)旋轉干燥，

6)70攝氏度真空干燥箱干燥12小時；

4.濾芯與過濾器組裝；

5.金屬雜質清洗：

1)0.35％HCl溶液沖洗2小時，

2)超純水沖洗60分鐘，