[發(fā)明專(zhuān)利]一種新型CIGS電極用鈦合金復(fù)合靶材鍍膜及其制備方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811488519.3
• 申請(qǐng)日: 2018-12-06
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN109536899A
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-03-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王家和;黃信二
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 研創(chuàng)應(yīng)用材料（贛州）股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/34
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/34;B22F3/14;C22C14/00;C23C14/18;C23C14/16;C23C14/06;C23C14/08;H01L31/0224
• 代理公司: 南昌贛專(zhuān)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 36129
• 代理人: 文珊

1.一種新型CIGS電極用鈦合金復(fù)合靶材鍍膜，其特征在于：

該CIGS電極用鈦合金復(fù)合靶材鍍膜包括鈦鈉復(fù)合靶材和鈦鉀復(fù)合靶材中的至少一種；

所述鈦鈉復(fù)合靶材的制備方法為：準(zhǔn)備鈦粉末和鈦鈉氧化物粉末，并將鈦粉末和鈦鈉氧化物粉末放置于V型混拌機(jī)混合均勻；然后將混合均勻后的鈦和鈦鈉氧化物混合物置于真空熱壓機(jī)的合金鋼模具中，先將熱壓機(jī)抽真空至5x10^-2torr以下，然后通入氬氣至0.5atm，在壓桿壓力為200-400MPa，溫度為830-1320℃的條件下熱壓成鈦鈉復(fù)合圓形靶材胚體；最后對(duì)上述鈦鈉復(fù)合圓形靶材胚體經(jīng)過(guò)機(jī)械加工后得到圓形的鈦鈉復(fù)合靶材；

所述鈦鉀復(fù)合靶材的制備方法為：準(zhǔn)備鈦粉末和鈦鉀氧化物粉末，并將鈦粉末和鈦鉀氧化物粉末放置于V型混拌機(jī)混合均勻；然后將混合均勻后的鈦和鈦鉀氧化物混合物置于真空熱壓機(jī)的合金鋼模具中，先將熱壓機(jī)抽真空至5x10^-2torr以下，然后通入氬氣至0.5atm，在壓桿壓力為200-400MPa，溫度為830-1320℃的條件下熱壓成鈦鉀復(fù)合圓形靶材胚體；最后對(duì)上述鈦鉀復(fù)合圓形靶材胚體經(jīng)過(guò)機(jī)械加工后得到圓形的鈦鉀復(fù)合靶材。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型CIGS電極用鈦合金復(fù)合靶材鍍膜，其特征在于：所述鈦粉末、鈦鈉氧化物粉末和鈦鉀氧化物粉末的純度均為99.99％，粒度均小于45μm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型CIGS電極用鈦合金復(fù)合靶材鍍膜，其特征在于：所述鈦鈉復(fù)合圓形靶材胚體和鈦鉀復(fù)合圓形靶材胚體的理論密度均大于98.0％。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型CIGS電極用鈦合金復(fù)合靶材鍍膜，其特征在于：所述鈦鈉復(fù)合靶材中，鈦元素的占比為70-95at％，鈉元素的占比為5-30at％；所述鈦鉀復(fù)合靶材中，鈦元素的占比為70-95at％，鉀元素的占比為5-30at％。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型CIGS電極用鈦合金復(fù)合靶材鍍膜，其特征在于：所述鈦鈉復(fù)合靶材和鈦鉀復(fù)合靶材的直徑均為75-230mm，高均為6-16mm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型CIGS電極用鈦合金復(fù)合靶材鍍膜的制備方法，其特征在于：往濺鍍腔體中放入鈦鈉復(fù)合靶材，以脈沖DC為電源，將濺鍍腔體的背景壓力抽至0.7×10^-5-0.9×10^-5torr后，以氬氣為工作氣體，透過(guò)節(jié)流閥通入氬氣并將濺鍍腔體的工作壓力控制為1×10^-3-3×10^-3torr，然后以2-6W/cm²的濺鍍功率往基板上濺鍍一層鈦鈉合金薄膜，并控制濺鍍層的厚度為50-600nm，制得CIGS電極用鈦合金復(fù)合靶材鍍膜。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種新型CIGS電極用鈦合金復(fù)合靶材鍍膜的制備方法，其特征在于：往濺鍍腔體中放入鈦鉀復(fù)合靶材，以脈沖DC為電源，將濺鍍腔體的背景壓力抽至0.7×10^-5-0.9×10^-5torr后，以氬氣為工作氣體，透過(guò)節(jié)流閥通入氬氣并將濺鍍腔體的工作壓力控制為1×10^-3-3×10^-3torr，然后以2-6W/cm²的濺鍍功率往基板上濺鍍一層鈦鉀合金薄膜層，并控制濺鍍層的厚度為50-600nm，制得CIGS電極用鈦合金復(fù)合靶材鍍膜。