[發明專利]陣列基板及其制造方法、顯示裝置

有效

• 申請號: 201811486997.0
• 申請日: 2018-12-06
• 公開（公告）號: CN109449169B
• 公開（公告）日: 2021-04-13
• 發明（設計）人: 曾超;黃煒赟;黃耀;高永益
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: H01L27/12
• 分類號: H01L27/12;H01L21/77
• 代理公司: 北京風雅頌專利代理有限公司 11403
• 代理人: 李莎;李弘

1.一種陣列基板，其特征在于，包括顯示區域和扇出區域；在所述顯示區域，設置有信號線，在所述扇出區域，設置有第一扇出線和第二扇出線，所述信號線與所述第一扇出線或第二扇出線連接；

在所述第一扇出線所在的第一扇出線層與所述第二扇出線所在的第二扇出線層之間，設置有間隔層；所述間隔層采用絕緣材料制作，用于增大所述第一扇出線層和第二扇出線層之間的層間間隔；所述第一扇出線的正投影與所述第二扇出線的正投影至少存在部分重疊；

所述第一扇出線層或第二扇出線層與所述陣列基板的遮光層為同一層；所述遮光層置于襯底基板上；所述遮光層用于遮擋從所述陣列基板背面入射的光線，以防止所述光線照射所述陣列基板的薄膜晶體管陣列中的有源層；

所述間隔層包括至少一層緩沖層和至少一層絕緣層；在所述第一扇出線所在的第一扇出線層與所述第二扇出線所在的第二扇出線層之間，設置所述至少一層緩沖層和所述至少一層絕緣層；

所述信號線包括數據線，所述陣列基板還包括轉接線層，所述轉接線層設置在所述數據線所在的數據線層與所述第一扇出線層之間，或者，設置在所述數據線所在的數據線層與所述第二扇出線層之間；所述轉接線層包括轉接線，所述數據線通過所述轉接線連接所述第一扇出線或第二扇出線；

所述信號線還包括柵線；所述轉接線層與所述柵線所在的柵線層為同一層。

2.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述第一扇出線的正投影與所述第二扇出線的正投影重疊。

3.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權利要求1或2所述陣列基板。

4.一種制造如權利要求1所述的陣列基板的方法，其特征在于，包括：

在襯底基板上形成包括第二扇出線的第二扇出線層；

在所述第二扇出線層上形成間隔層；

在所述間隔層上形成包括第一扇出線的第一扇出線層，所述第一扇出線的正投影與所述第二扇出線的正投影至少存在部分重疊；

在所述第一扇出線層上形成包括信號線的信號線層，所述信號線與所述第一扇出線或第二扇出線連接；

其中，所述間隔層采用絕緣材料制作，用于增大所述第一扇出線層和第二扇出線層之間的層間間隔；所述信號線形成在所述陣列基板的顯示區域，所述第一扇出線和第二扇出線形成在所述陣列基板的扇出區域；

所述方法還包括：

在所述襯底基板上形成第一金屬薄膜；

對所述第一金屬薄膜進行圖案化處理，形成遮光層和所述第二扇出線層；所述遮光層用于遮擋從所述陣列基板背面入射的光線，以防止所述光線照射所述陣列基板的薄膜晶體管陣列中的有源層；

所述信號線包括柵線，在所述第二扇出線層上形成間隔層之后，還包括：

在所述間隔層上形成第二金屬薄膜；

對所述第二金屬薄膜進行圖案化處理，在所述顯示區域形成柵線層，在所述顯示區域和扇出區域的交界位置形成轉接線層；

所述方法還包括：

在所述第一扇出線所在的第一扇出線層與所述第二扇出線所在的第二扇出線層之間，形成至少一層緩沖層和至少一層絕緣層。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述第一扇出線的正投影與所述第二扇出線的正投影重疊。