[發明專利]彩色薄膜及其形成方法在審
| 申請號： | 201811486188.X | 申請日： | 2018-12-06 |
| 公開（公告）號： | CN110387528A | 公開（公告）日： | 2019-10-29 |
| 發明（設計）人： | 丁志明;張惇易 | 申請（專利權）人： | 丁志明 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35;C23C14/02;C23C14/06 |
| 代理公司： | 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金國 |
| 地址： | 中國臺灣臺北市中山*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 彩色薄膜 氮氣 氮氧化鈦層 氮氧化鈦 方法使用 濺射功率 金屬光澤 平坦表面 附著性 靶材 呈色 純鈦 單層 氮氧 濺射 | ||
1.一種彩色薄膜的形成方法，其特征在于，包含：
提供一金屬基材；以及
對該金屬基材進行一濺鍍操作，以形成具有一預定呈色的單層氮氧化鈦薄膜于該金屬基材上，其中該濺鍍操作包含：
使用150W至350W的一濺射功率，以惰性氣體與氮氣的一混合氣體，濺射一鈦靶材，其中該氮氣占該混合氣體的體積的1.5％至35％。
2.根據權利要求1所述的彩色薄膜的形成方法，其特征在于，該濺射操作是進行10分鐘至40分鐘。
3.根據權利要求1所述的彩色薄膜的形成方法，其特征在于，該濺射操作是于35℃至45℃的溫度下進行。
4.根據權利要求1所述的彩色薄膜的形成方法，其特征在于，該濺射操作的一工作壓力為3mtorr至5mtorr。
5.根據權利要求1所述的彩色薄膜的形成方法，其特征在于，該濺射操作是于一反應腔體中進行，且進行該濺射操作前，該反應腔體的一背景壓力為5×10-6torr至8×10-6torr。
6.根據權利要求1所述的彩色薄膜的形成方法，其特征在于，當該濺鍍功率越小時，該預定呈色趨向CIELAB色空間的第一象限和第二象限。
7.根據權利要求1所述的彩色薄膜的形成方法，其特征在于，當該濺鍍功率越大時，該預定呈色趨向CIELAB色空間的第三象限和第四象限。
8.一種彩色薄膜，其特征在于，使用如權利要求1至7中任一項的彩色薄膜的形成方法，形成于一基材上，其中該彩色薄膜為單層氮氧化鈦薄膜。
9.根據權利要求8所述的彩色薄膜，其特征在于，該單層氮氧化鈦薄膜的一厚度為160nm至250nm。
10.根據權利要求8所述的彩色薄膜，其特征在于，該單層氮氧化鈦薄膜的氮氧莫耳比值為0.03至0.2。
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