[發明專利]一種石墨片表面鍍鎳納米顆粒的方法在審
| 申請號: | 201811485000.X | 申請日: | 2018-12-06 |
| 公開(公告)號: | CN109536933A | 公開(公告)日: | 2019-03-29 |
| 發明(設計)人: | 李長生;開紹森;紀琳晶 | 申請(專利權)人: | 江蘇大學 |
| 主分類號: | C23C18/18 | 分類號: | C23C18/18;C23C18/36 |
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| 地址: | 212013 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 石墨片 納米顆粒 表面鍍鎳 還原處理 納米材料制備技術 化學鍍鎳法 粗化處理 分散均勻 干擾因素 活化處理 敏化處理 傳統的 馬弗爐 除油 鍍覆 鍍鎳 鍍液 放入 煅燒 優化 改進 | ||
1.一種石墨片表面鍍鎳納米顆粒的方法,其特征在于,包括下列步驟:
(1)將石墨片放入馬弗爐中煅燒以去除石墨片表面的光刻膠和吸附的水汽;
(2)除油處理:配制由NaOH、Na2CO3和Na3PO4·12H2O組成的堿溶液,將步驟(1)處理的石墨片加入堿溶液中并在水浴鍋中進行機械攪拌,最后經真空抽濾,并用去離子水將石墨片洗滌至中性;
(3)粗化處理:將步驟(2)處理的石墨片加入HNO3中處理,經真空抽濾、去離子水洗滌至中性;
(4)敏化處理:將步驟(3)處理的石墨片加入到SnCl2·2H2O和HCl組成的混合溶液中,并施以強烈攪拌,結束后經真空抽濾、去離子水洗滌至中性;
(5)活化處理:將步驟(4)處理的石墨片加入到的PdCl2和HCl組成的混合溶液中并進行攪拌,結束后經真空抽濾、去離子水洗滌至中性;
(6)還原處理:將步驟(5)處理的石墨片加入到NaH2PO2·H2O溶液中并進行攪拌,結束后經真空抽濾、去離子水洗滌至中性;
(7)配制鍍液:鍍液由主鹽NiSO4·6H2O、還原劑NaH2PO2·H2O、絡合劑Na3C6H5O7和NH4Cl組成;
(8)將步驟(6)處理的石墨片加入到步驟(7)配制好的鍍液中,在水浴鍋中進行機械攪拌,攪拌過程中利用NH3·H2O調節鍍液pH,使其穩定在9-10之間,最后經真空抽濾、去離子水洗滌至中性、真空干燥即得到鍍鎳納米顆粒的石墨片。
2.根據權利要求1所述的石墨片表面鍍鎳納米顆粒的方法,其特征在于,步驟(1)中,煅燒溫度為200℃,保溫時間為30min。
3.根據權利要求1所述的石墨片表面鍍鎳納米顆粒的方法,其特征在于,步驟(2)中,堿溶液中NaOH的濃度為80-100g/L、Na2CO3的濃度為20-30g/L、Na3PO4·12H2O的濃度為20-30g/L;石墨片的含量為6-10g/L;水浴溫度為50-60℃,攪拌時間為20-30min,攪拌速度為350-400rpm。
4.根據權利要求1所述的石墨片表面鍍鎳納米顆粒的方法,其特征在于,步驟(3)中,HNO3的質量百分濃度為60%-68%,處理為8-10min。
5.根據權利要求1所述的石墨片表面鍍鎳納米顆粒的方法,其特征在于,步驟(4)中,混合溶液中SnCl2·2H2O的濃度為5-25g/L、HCl的濃度為100ml/L;溫度20-30℃,攪拌時間20-30min,攪拌速度為400-450rpm。
6.根據權利要求1所述的石墨片表面鍍鎳納米顆粒的方法,其特征在于,步驟(5)中,混合溶液中PdCl2的濃度為0.05-0.5g/L、HCl的濃度為15ml/L;溫度20-30℃,攪拌時間20-30min,攪拌速度為350-400rpm。
7.根據權利要求1所述的石墨片表面鍍鎳納米顆粒的方法,其特征在于,步驟(4)和步驟(5)中,HCl的質量分數為30%-37%。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過液態化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應產物的化學鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法,例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍,即無電流化學鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預處理





