[發明專利]一種卷對卷涂布機基材的在線表面處理機構及方法

在審

• 申請號: 201811483434.6
• 申請日: 2018-12-05
• 公開（公告）號: CN109395998A
• 公開（公告）日: 2019-03-01
• 發明（設計）人: 歐陽俊波;馮宗寶;張海鑾;程園園;崔陽陽;王德萬;林傳興;章婷;錢磊;張德龍
• 申請（專利權）人: 蘇州威格爾納米科技有限公司
• 主分類號: B05D3/04
• 分類號: B05D3/04
• 代理公司: 蘇州華博知識產權代理有限公司 32232
• 代理人: 孟宏偉

本發明提供一種卷對卷涂布機基材的在線表面處理機構及方法，在線表面處理機構包括依次相通的回風箱、紫外清洗箱和進風箱，所述進風箱上連接有與惰性氣源連通的進風回路，所述回風箱上連接有可開閉的排風回路，所述進風箱和回風箱之間連接有可開閉的循環回路。使用紫外光照的方式進行涂布基材的表面處理，通過排風回路排出紫外清洗箱內空氣，并通入惰性氣氛，充分利用紫外光照的光敏作用，同時避免紫外光與空氣產生臭氧而造成對工作環境的污染；通過在紫外清洗箱前后的進風箱和回風箱構成一個封閉的循環系統，保證紫外光照清洗在惰性氣氛下進行，同時過濾清洗產生的粉塵或顆粒；通過冷凝裝置，降低環境溫度，避免高溫對涂布基材產生影響。

技術領域

本發明涉及一種表面處理裝置，具體是一種卷對卷涂布機基材的在線表面處理機構及方法。

背景技術

卷對卷涂布技術作為一種傳統的薄膜成型技術，隨著近些年的新興產業的發展，越來越多的向新興產業滲透，特別是近年比較熱門的鈣鈦礦太陽能電池、氫燃料電池、量子顯示等，相對于傳統的薄膜成型而言，這些新興產業薄膜涂層具有高精度或超薄涂層等特點，所以對于涂布的環境的潔凈度及表面附著性等要求相當高。

傳統的基材表面處理方式主要有紫外光照清洗、等離子清洗、電暈處理、超聲清洗等。紫外光清洗技術利用有機化合物的光敏氧化作用達到去除粘附在材料表面上的有機物質，經過光清洗后的材料表面可以達到“原子清潔度”，目前主要應用在液晶顯示器件、半導體硅晶體、集成電路、光學器件等生產過程中的清洗，當時這種清洗方式在空氣中會產生臭氧，如在工作環境中使用會對環境造成污染，對人體會造成健康隱患；等離子清洗一般是在真空腔體內，通過射頻電源在一定壓力情況下起輝產生高能量的無序的等離子體，通過等離子體轟擊被清洗產品表面以達到清洗目的，因需要在真空腔體中進行，故通常情況下也主要針對一些片材進行清洗，當然近些年也出現了常壓等離子技術，不需要真空腔體，但在同樣存在表面處理時的空氣污染問題，對人體會有一定的健康隱患；超聲清洗需要在液體介質中進行，且僅能改善基材表面潔凈度，對表面附著性改善效果較差；而電暈處理目前在卷對卷涂布上應用還是比較廣泛的，特別是鋰電隔膜、光學膜等涂布行業，但電暈處理實際上也存在一定的缺點：表面活動能力相對較低，而且處理之后的表面效果有時不夠均勻，薄膜的反面也會被處理，有時這是工藝要求需要避免的。

發明內容

為了克服上述現有技術的不足，本發明的目的是提供了一種卷對卷涂布機基材的在線表面處理機構及方法，主要針對目前一些對涂布條件要求較高的新興行業，在涂布前進行基材的表面清潔處理，增加涂布材料在基材表面的附著性，改善涂布品質。

為達到上述目的，本發明解決其技術問題所采用的技術方案是：一種卷對卷涂布機基材的在線表面處理機構，包括依次相通的回風箱、紫外清洗箱和進風箱，所述進風箱上連接有與惰性氣源連通的進風回路，所述回風箱上連接有可開閉的排風回路，所述進風箱和回風箱之間連接有可開閉的循環回路，所述循環回路上設有冷凝裝置和粉塵過濾器，所述進風箱內設有氧含量檢測器。

本發明相較于現有技術，使用紫外光照的方式進行涂布基材的表面處理，通過排風回路排出紫外清洗箱內空氣，并通入惰性氣氛，充分利用紫外光照的光敏作用，同時避免紫外光與空氣產生臭氧而造成對工作環境的污染；通過在紫外清洗箱前后的進風箱和回風箱構成一個封閉的循環系統，保證紫外光照清洗在惰性氣氛下進行，同時過濾清洗產生的粉塵或顆粒；通過冷凝裝置，降低環境溫度，避免高溫對涂布基材產生影響。

進一步地，所述進風箱上通過風管連接有變頻風機，所述進風回路包括從惰性氣源到變頻風機之間依次設置的減壓閥、進風電磁閥；所述循環回路包括從回風箱上出風口到變頻風機之間依次設置的冷凝裝置、球閥、粉塵過濾器、回風電磁閥；從粉塵過濾器和回風電磁閥之間管路上分支出連通到排風口的排風管，所述排風管上連接有排風電磁閥。

進一步地，所述進風箱內設有第一氣壓檢測儀表，所述回風箱內設有第二氣壓檢測儀表。