[發(fā)明專利]一種小口徑光學(xué)成像級聚酰亞胺薄膜制備方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811464794.1
• 申請日: 2018-12-03
• 公開（公告）號: CN109575331A
• 公開（公告）日: 2019-04-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 毛丹波;高國涵;楊偉;范斌
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所
• 主分類號: C08J5/18
• 分類號: C08J5/18;C08L79/08
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種小口徑光學(xué)成像級聚酰亞胺薄膜制備方法，其特征在于：通過在石英基片上旋涂一定濃度的聚酰胺酸溶液，依靠離心力將多余的溶液甩離基片本身，并在基片上留下一層薄膜，隨后轉(zhuǎn)移到加熱板上進(jìn)行預(yù)烘脫除溶劑，最后進(jìn)行高溫亞胺化完成一個循環(huán)，重復(fù)旋涂-預(yù)烘-亞胺化步驟，直至得到所需厚度的聚酰亞胺薄膜，薄膜透射波前PV≤1/4λ，RMS≤1/30λ，滿足成像質(zhì)量要求。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的小口徑光學(xué)成像級聚酰亞胺薄膜制備方法，其特征在于：石英基片尺寸≥Ф100mm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的小口徑光學(xué)成像級聚酰亞胺薄膜制備方法，其特征在于：聚酰胺酸的固含量為7％～15％。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的小口徑光學(xué)成像級聚酰亞胺薄膜制備方法，其特征在于：采用多次旋涂疊加的方法，直至制備所需厚度的聚酰亞胺薄膜，薄膜厚度≥15μm，薄膜有效口徑≥Ф90mm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1～4任一項(xiàng)所述的小口徑光學(xué)成像級聚酰亞胺薄膜制備方法，其特征在于：所述制備方法具體包括以下步驟：

步驟1：通過真空或機(jī)械方式將石英基片固定于吸片臺上；

步驟2：制備聚酰胺酸溶液，并控制在一定粘度；

步驟3：將步驟2中的適量溶液流平至步驟1中的石英基片上，靜置一段時(shí)間至溶液浸潤整個石英基片；

步驟4：在合適的轉(zhuǎn)速下旋涂一定時(shí)間，依靠離心力將多余的溶液甩離基片本身，并在基片上留下一層薄膜；

步驟5：將步驟4中的濕膜轉(zhuǎn)移到加熱板上進(jìn)行預(yù)烘脫除溶劑，直至得到?jīng)]有流動性的聚酰胺酸凝膠干膜；

步驟6：連同石英基片放進(jìn)烘箱進(jìn)行高溫?zé)醽啺坊幚恚?/p>

步驟7：如有需要，重復(fù)步驟3至步驟6，直至得到所需厚度的聚酰亞胺薄膜；

步驟8：最后將薄膜從基片上剝離下來，得到波前誤差小于1/4波長滿足成像質(zhì)量要求的小口徑光學(xué)成像級聚酰亞胺薄膜。