[發明專利]一種定位沙塵暴入侵的云計算系統在審
| 申請號: | 201811461656.8 | 申請日: | 2018-03-19 |
| 公開(公告)號: | CN109218637A | 公開(公告)日: | 2019-01-15 |
| 發明(設計)人: | 王英華 | 申請(專利權)人: | 崔連臣 |
| 主分類號: | H04N5/374 | 分類號: | H04N5/374;G01S19/42 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 211100 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 警戒線 直升機 飛行數據 沙塵暴 云計算系統 成像設備 實時圖像 位置數據 飽和度 入侵 數據存儲設備 歸一化處理 輸出 成分調整 定位數據 飛行圖像 檢測設備 預先存儲 像素點 警戒 色調 采集 監控 檢測 | ||
1.一種定位沙塵暴入侵的云計算系統,其特征在于,所述系統包括:
警戒線數據存儲設備,設置在直升機上,用于預先存儲警戒線位置數據,所述警戒線位置數據包括各個警戒點的定位數據;
飛行數據檢測設備,設置在直升機上,用于檢測并輸出直升機的飛行數據,所述飛行數據包括即時高度和即時GPS位置;
CMOS傳感設備,設置在直升機上,用于面向直升機下方進行飛行圖像采集,以獲得并輸出下方實時圖像;
成分調整設備,與所述CMOS傳感設備連接,用于接收下方實時圖像,并對所述下方實時圖像中的每一個像素點的色調成分、亮度成分和飽和度成分進行歸一化處理,以將所述下方實時圖像中的每一個像素點的色調成分、亮度成分和飽和度成分都歸一化調整到0到1的數值區間內,以獲得并輸出調整后色調成分、調整后亮度成分和調整后飽和度成分,所述成分調整設備的操作在云端進行;
數據比較設備,與所述成分調整設備連接,用于接收各個像素點的調整后色調成分、調整后亮度成分和調整后飽和度成分,針對每一個像素點,將1減去調整后亮度成分以獲得第一提取數據,將1減去調整后色調成分以獲得第二提取數據,將1減去調整后飽和度成分以獲得第三提取數據,將所述第二提取數據和所述第三提取數據的乘積除以所述第一提取數據以獲得數據運算結果,取各個像素點的數據運算結果的平均值以作為比較因子;
其中,在所述數據比較設備中,當所述比較因子小于預設參考閾值時,確定所述下方實時圖像為高明度圖像;
其中,在所述數據比較設備中,當所述比較因子大于等于預設參考閾值時,確定所述下方實時圖像為低明度圖像;
參數修正設備,與所述數據比較設備連接,用于接收所述比較因子,還用于在接收到所述高明度圖像時,選擇高電平切割限值并作為目標切割限值輸出,用于在接收到所述低明度圖像時,選擇低電平切割限值并作為目標切割限值輸出;
圖像切割設備,分別與所述CMOS傳感設備和所述參數修正設備連接,用于接收所述下方實時圖像以及所述目標切割限值,并基于所述目標切割限值從所述下方實時圖像中切割出待分析區域,所述圖像切割設備基于所述目標切割限值從所述下方實時圖像中切割出待分析區域包括:當所述目標切割限值為所述高電平切割限值時,將所述下方實時圖像中亮度值小于等于所述高電平切割限值的像素點組成所述待分析區域,以及當所述目標切割限值為所述低電平切割限值時,將所述下方實時圖像中亮度值大于等于所述低電平切割限值的像素點組成所述待分析區域;
前鋒區域檢測設備,與所述圖像切割設備連接,用于接收所述待分析區域,并基于沙塵暴前鋒卷動形狀以及沙塵暴顏色范圍從所述待分析區域中提取出沙塵暴前鋒區域;
前鋒分析設備,設置在直升機上,與所述前鋒區域檢測設備連接,用于獲取沙塵暴前鋒區域和下方實時圖像,還與所述飛行數據檢測設備連接以獲得所述即時高度和所述即時GPS位置,基于所述即時高度、所述即時GPS位置以及所述沙塵暴前鋒區域在所述下方實時圖像的位置確定所述沙塵暴前鋒區域的即時GPS位置;
位置對比設備,設置在直升機上,分別與所述警戒線數據存儲設備和所述前鋒分析設備連接,用于接收所述警戒線位置數據和所述沙塵暴前鋒區域的即時GPS位置,并將所述沙塵暴前鋒區域的即時GPS位置與所述警戒線位置數據中的各個警戒點的定位數據進行逐一匹配,在匹配都失敗時,發出未觸及警戒線信號,以及在匹配成功時,發出觸及警戒線信號并發出匹配到的警戒點的定位數據;
射頻發送設備,設置在直升機上,用于將所述觸及警戒線信號以及所述匹配到的警戒點的定位數據發送到沙塵暴防控中心服務器處,或用于將所述未觸及警戒線信號發送到沙塵暴防控中心服務器處;
所述數據比較設備的運算操作被放置在網絡對端的云計算平臺處進行。
2.根據權利要求1所述的一種定位沙塵暴入侵的云計算系統,其特征在于,所述系統還包括:
數據存儲設備,與所述數據比較設備連接,用于存儲所述預設參考閾值。
3.根據權利要求1所述的一種定位沙塵暴入侵的云計算系統,其特征在于:
所述高電平切割限值的數值分布范圍在200-255之間;以及所述低電平切割限值的數值分布范圍在0-64之間。
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