[發明專利]一種液晶膜及其制備方法

在審

• 申請號: 201811457685.7
• 申請日: 2018-11-30
• 公開（公告）號: CN109307967A
• 公開（公告）日: 2019-02-05
• 發明（設計）人: 葛士軍;胡偉;劉超;袁瑞
• 申請（專利權）人: 蘇州晶萃光學科技有限公司;南京寧萃光學科技有限公司;江蘇集萃智能液晶科技有限公司
• 主分類號: G02F1/137
• 分類號: G02F1/137;G02F1/1337;G02F1/1333
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 孟金喆

1.一種液晶膜，其特征在于，包括：基板、取向膜以及液晶層；

所述取向膜設置于所述基板的一側，所述液晶層設置于所述取向膜遠離所述基板的一側；

所述取向膜具有分子指向矢呈設定分布的控制圖形，以使所述液晶層中鄰近所述取向膜的液晶分子的分子指向矢與所述取向膜的分子指向矢呈相同分布；

其中，所述控制圖形包含周期排布的多個子控制圖形，所述子控制圖形中的取向膜的分子指向矢呈0°-180°漸變；所述液晶層包括向列相液晶和手性劑。

2.根據權利要求1所述的液晶膜，其特征在于，所述控制圖形包含多個呈矩形的子控制圖形，多個所述子控制圖形沿第一方向延伸且沿第二方向排列；所述第一方向與所述第二方向交叉；每個所述子控制圖形控制所在區域的所述取向膜的分子指向矢沿所述第二方向從0°-180°漸變。

3.根據權利要求1所述的液晶膜，其特征在于，所述控制圖形包含多個呈同心圓環狀的子控制圖形，每個所述子控制圖形控制所在區域的所述取向膜的分子指向矢沿所述子控制圖形的徑向方向從0°-180°漸變。

4.根據權利要求1所述的液晶膜，其特征在于，所述控制圖形包含多個呈扇形的子控制圖形；多個扇形的子控制圖形構成圓形的所述控制圖形；每個所述子控制圖形控制所在區域的所述取向膜的分子指向矢沿所述子控制圖形的圓弧延伸方向從0°-180°漸變。

5.根據權利要求1所述的液晶膜，其特征在于，所述向列相液晶與所述手性劑的質量比的范圍為99.1:0.9-99.0:1.0。

6.一種液晶膜的制備方法，其特征在于，包括：

提供基板；

在所述基板的一側形成取向膜；

對所述取向膜進行取向處理，以形成分子指向矢呈設定分布的控制圖形；

在所述取向膜遠離基板一側形成液晶層，所述取向膜的控制圖形控制所述液晶層中鄰近所述取向膜的液晶分子的分子指向矢與所述取向膜的分子指向矢呈相同分布；

其中，所述控制圖形包含周期排布的多個子控制圖形，所述子控制圖形中的取向膜的分子指向矢呈0°-180°漸變；所述液晶層包括向列相液晶和手性劑。

7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述在所述基板的一側形成光控取向膜，包括：將取向材料旋涂在所述基板的一側，并將旋涂有取向材料的基板作退火處理。

8.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，采用動態光控取向系統，根據曝光次序，選擇對應的曝光圖形，以及對應的誘導光偏振方向，對所述光控取向膜進行連續多次曝光。

9.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，所述選擇對應的曝光圖形，以及對應的誘導光偏振方向，對所述光控取向膜進行連續多次曝光包括：

設置相鄰步驟曝光圖形的曝光區域部分重疊，所述誘導光偏振方向隨曝光次序單調增加或單調減小，以使所述控制圖形包含多個呈矩形的子控制圖形，多個子控制圖形沿第一方向延伸且沿第二方向排列；所述第一方向與所述第二方向交叉；所述子控制圖形控制所在區域的所述取向膜的分子指向矢沿所述第二方向從0°-180°漸變；

其中，每個所述曝光圖形均包括多個條狀透光區和多個條狀遮光區，所述條狀透光區和所述條狀遮光區間隔設置，且相鄰兩個所述曝光圖形中的條狀透光區部分重疊。

10.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，所述選擇對應的曝光圖形，以及對應的誘導光偏振方向，對所述光控取向膜進行連續多次曝光包括：設置相鄰步驟曝光圖形的曝光區域部分重疊，所述誘導光偏振方向隨曝光次序單調增加或單調減小，以使所述控制圖形包含多個呈同心圓環狀的子控制圖形，每個所述子控制圖形控制所在區域的所述取向膜的分子指向矢沿所述子控制圖形的徑向方向從0°-180°漸變；

其中，每個所述曝光圖形均包括多個同心圓環圖案，每個同心圓環圖案中包括多個環狀透光區和多個環狀遮光區，所述環狀透光區和所述環狀遮光區間隔設置，且相鄰兩個所述曝光圖形中的環狀透光區部分重疊。

11.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，所述選擇對應的曝光圖形，以及對應的誘導光偏振方向，對所述光控取向膜進行多次連續曝光包括：設置相鄰步驟曝光圖形的曝光區域部分重疊，所述誘導光偏振方向隨曝光次序單調增加或單調減小，以使所述控制圖形包含多個呈扇形的子控制圖形；多個扇形的子控制圖形構成圓形的所述控制圖形；每個所述子控制圖形控制所在區域的所述取向膜的分子指向矢沿所述子控制圖形的圓弧延伸方向從0°-180°漸變；

其中，每個所述曝光圖形均包括多個扇形透光區和多個扇形遮光區，所述扇形透光區和所述扇形遮光區間隔設置，且相鄰兩個所述曝光圖形中的扇形透光區部分重疊。