[發(fā)明專利]一種氣化還原制備合成氣的方法和系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811456425.8 | 申請日: | 2018-11-30 |
| 公開(公告)號: | CN111253973A | 公開(公告)日: | 2020-06-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 金飛偉;呂彬峰;斯文慶;李正平;陳鋒江 | 申請(專利權(quán))人: | 浙江天祿環(huán)境科技有限公司 |
| 主分類號: | C10J3/20 | 分類號: | C10J3/20;C10J3/84;C10J3/72;C10L3/00 |
| 代理公司: | 杭州敦和專利代理事務(wù)所(普通合伙) 33296 | 代理人: | 姜術(shù)丹 |
| 地址: | 324022 浙江省衢*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 氣化 還原 制備 合成氣 方法 系統(tǒng) | ||
1.一種氣化還原制備合成氣的方法,該方法包括以下步驟:低階煤依次通過烘干工藝和氣化還原工藝得到提質(zhì)煤和油氣混合物,所述油氣混合物經(jīng)凈化工藝得到包含CO、H2和烴類的混合氣體,其特征在于:
所述氣化還原工藝是在無氧或微氧條件下對烘干后的低階煤進行加熱的化學(xué)反應(yīng)工藝;
所述混合氣體經(jīng)分離工藝處理得到包含H2和CO的第一合成氣;
所述提質(zhì)煤通過與H2O和O2反應(yīng)制備包含CO和H2的第三合成氣;
將所述第一合成氣和第三合成氣混合,即得所述合成氣。
2.如權(quán)利要求1所述的一種氣化還原制備合成氣的方法,其特征在于:所述凈化工藝包括除塵工藝、脫焦油工藝和脫硫工藝。
3.如權(quán)利要求1所述的一種氣化還原制備合成氣的方法,其特征在于:所述烘干工藝采用水蒸汽間接烘干,所述水蒸汽的壓力為0.3-1.5Mpa,所述水蒸汽的溫度為105-250℃,所述烘干工藝的出口物料含水率不超過7wt%,所述烘干工藝的出口物料溫度為50-150℃。
4.如權(quán)利要求3所述的一種氣化還原制備合成氣的方法,其特征在于:所述烘干工藝采用水蒸汽間接烘干,所述水蒸汽的壓力為0.6-1.2Mpa,所述水蒸汽的溫度為120-200℃,所述烘干工藝的出口物料含水率不超過6wt%,所述烘干工藝的出口物料溫度為80℃-130℃。
5.如權(quán)利要求1所述的一種氣化還原制備合成氣的方法,其特征在于:所述氣化還原工藝的反應(yīng)溫度為350-800℃。
6.如權(quán)利要求1所述的一種氣化還原制備合成氣的方法,其特征在于:所述分離工藝為變壓吸附。
7.如權(quán)利要求1所述的一種氣化還原制備合成氣的方法,其特征在于:所述烘干工藝和氣化還原工藝之間還設(shè)有氣化進料工藝,所述烘干后的低階煤經(jīng)所述氣化進料工藝處理分散為均勻顆粒后再進入所述氣化還原工藝。
8.一種使用如權(quán)利要求1-7中任一項所述的方法的系統(tǒng),其特征在于:包括烘干裝置、氣化還原裝置、凈化裝置、分離裝置和氣化爐,所述烘干裝置通過氣化進料裝置與所述氣化還原裝置連接,所述氣化還原裝置與所述氣化爐連接,所述氣化進料裝置的上端與所述凈化裝置連接,所述凈化裝置與所述分離裝置連接。
9.如權(quán)利要求8所述的系統(tǒng),其特征在于:所述凈化裝置包括除塵裝置、脫焦油裝置和脫硫裝置,所述除塵裝置、脫焦油裝置和脫硫裝置依次連接。
10.如權(quán)利要求8所述的系統(tǒng),其特征在于:所述氣化還原裝置為360°可旋轉(zhuǎn)的臥式反應(yīng)釜,所述臥式反應(yīng)釜外部設(shè)有第一加熱機構(gòu),所述臥式反應(yīng)釜內(nèi)部設(shè)有第二加熱機構(gòu)。
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