[發明專利]檢測成像場曲的方法、檢測成像傾斜的方法及成像檢測儀有效
| 申請號: | 201811453256.2 | 申請日: | 2018-11-30 |
| 公開(公告)號: | CN111263136B | 公開(公告)日: | 2022-04-01 |
| 發明(設計)人: | 李超玉;彭海林;孫昭源 | 申請(專利權)人: | 歐菲影像技術(廣州)有限公司 |
| 主分類號: | H04N17/00 | 分類號: | H04N17/00 |
| 代理公司: | 華進聯合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 鄧云鵬 |
| 地址: | 510000 廣東省廣州*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 檢測 成像 方法 傾斜 | ||
1.一種檢測成像場曲的方法,其特征在于,包括如下步驟:
提供待測鏡頭以及樣本;
在成像距離不變的情況下,獲取樣本在所述待測鏡頭的多個物距下的成像畫面,成像畫面的數量為多個,成像畫面與樣本的物距一一對應;
獲得中心視場區域解析值最高的成像畫面所對應的物距,該物距為中心物距;獲得非中心視場區域解析值最高的成像畫面所對應的物距,該物距為非中心物距;以及
若所述中心物距與所述非中心物距不相同,則所述待測鏡頭存在成像場曲。
2.根據權利要求1所述的檢測成像場曲的方法,其特征在于,還包括根據所述中心物距與所述非中心物距的大小判斷所述成像場曲正負的步驟:若所述中心物距大于所述非中心物距,則所述待測鏡頭的非中心視場的成像場曲為負,反之則成像場曲為正。
3.根據權利要求1所述的檢測成像場曲的方法,其特征在于,非中心視場區域包括多個帶區,在每個所述帶區中取多個關于中心視場中心對稱的取樣區域,對每個成像畫面于同一所述帶區的多個所述取樣區域的解析值取平均,將該平均值作為該成像畫面于該帶區的解析值,獲得該帶區中解析值最高的成像畫面所對應的物距,該物距為與該帶區對應的所述非中心物距。
4.根據權利要求3所述的檢測成像場曲的方法,其特征在于,非中心視場區域包括0.5帶區及0.8帶區,所述非中心物距包括與0.5帶區對應的第一帶區物距及與0.8帶區對應的第二帶區物距,獲得0.5帶區中解析值最高的成像畫面所對應的物距,該物距為所述第一帶區物距;獲得0.8帶區中解析值最高的成像畫面所對應的物距,該物距為所述第二帶區物距;以及
若所述中心物距與所述第一帶區物距或所述第二帶區物距不相同,則所述待測鏡頭存在成像場曲。
5.根據權利要求4所述的檢測成像場曲的方法,其特征在于,若所述第一帶區物距小于所述中心物距,則0.5帶區的成像場曲為負,反之為正;若所述第二帶區物距小于所述中心物距,則0.8帶區的成像場曲為負,反之為正。
6.根據權利要求1所述的檢測成像場曲的方法,其特征在于,所述檢測成像場曲的方法還包括判斷制程下的鏡頭整體存在成像場曲的步驟:
獲取多組所述待測鏡頭的所述中心物距及所述非中心物距;以及
若占據數最多的所述中心物距與占據數最多的所述非中心物距不相同,則制程下的鏡頭整體存在成像場曲。
7.根據權利要求1-6任一項所述的檢測成像場曲的方法,在成像距離不變的情況下,獲取樣本在所述待測鏡頭的多個物距下的成像畫面,成像畫面的數量為多個,成像畫面與樣本的物距一一對應的步驟中,其特征在于,樣本設置的物距范圍在15cm至60cm以內。
8.根據權利要求1-6任一項所述的檢測成像場曲的方法,獲得中心視場區域解析值最高的成像畫面所對應的物距,該物距為中心物距;獲得非中心視場區域解析值最高的成像畫面所對應的物距,該物距為非中心物距的步驟中,其特征在于,對成像畫面進行調制傳遞函數及空間頻率響應測試以得到相應區域的解析值。
9.一種成像檢測儀,用于采用如權利要求1-8任一項所述的檢測成像場曲的方法檢測待測鏡頭,其特征在于,包括:
測試卡,作為樣本,放置于所述待測鏡頭的物側;
光源,用于產生均勻光,對所述測試卡均勻照亮;
變物距平臺,所述變物距平臺用于調節所述測試卡相對于待測鏡頭的物距,從而使得所述待測鏡頭能夠獲取所述測試卡在多個物距下的成像畫面。
10.根據權利要求9所述的成像檢測儀,其特征在于,所述成像檢測儀包括感光元件,所述感光元件設置于所述待測鏡頭的像側,并用于接收成像畫面。
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