[發明專利]一種光動力超疏水型抗感染涂層及其制備方法

有效

• 申請號: 201811452806.9
• 申請日: 2018-11-30
• 公開（公告）號: CN109395115B
• 公開（公告）日: 2020-12-08
• 發明（設計）人: 宋凌杰;欒世方;殷敬華;楊華偉;石恒沖
• 申請（專利權）人: 中國科學院長春應用化學研究所
• 主分類號: A61L2/08
• 分類號: A61L2/08;A61L2/232
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 趙青朵

1.一種光動力超疏水型抗感染涂層的制備方法，包括以下步驟：

a）在基底材料表面原位沉積二氧化硅，得到表面處理后的基底材料；

b）在步驟a）得到的表面處理后的基底材料表面進行光敏劑的化學鍵合，得到表面鍵合光敏劑的材料；所述光敏劑由質量比為（1~500）：（1~200）：（2~400）的羧基光敏劑、N-乙基-Nˊ-(3-二甲氨基)丙基碳化二亞胺鹽酸和N-羥基琥珀酰亞胺組成；

c）將步驟b）得到的表面鍵合光敏劑的材料進行氟化處理，得到光動力超疏水型抗感染涂層；所述氟化處理的過程具體為：

將得到的表面鍵合光敏劑的材料置于含氟基硅氧烷的甲苯溶液中，在0℃~10℃下反應1h~8h，再經清洗、干燥，得到光動力超疏水型抗感染涂層。

2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟a）中所述基底材料選自高分子材料、織物材料、玻璃或硅片。

3.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟a）中所述原位沉積二氧化硅的過程具體為：

將基底材料置于甲醇、異丙醇、氨水的混合溶液中，逐滴加入原硅酸四乙酯，然后在20℃~30℃下反應4h~12h，再經清洗、干燥，得到表面處理后的基底材料。

4.根據權利要求3所述的制備方法，其特征在于，步驟a）中所述甲醇、異丙醇、氨水和原硅酸四乙酯的體積比為（15~30）：（60~80）：（15~25）：（5~10）。

5.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟b）中所述化學鍵合的過程具體為：

將得到的表面處理后的基底材料置于APTES溶液中，在20℃~30℃下反應1h~14h后，浸入到光敏劑中反應2h~30h，再經清洗、干燥，得到表面鍵合光敏劑的材料。

6.根據權利要求5所述的制備方法，其特征在于，步驟b）中所述APTES溶液為體積比為0.5%~5%的APTES甲苯溶液或體積比為0.5%~5%的APTES乙醇溶液。

7.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟c）中所述含氟基硅氧烷的甲苯溶液的體積比為0.1%~0.8%；

所述含氟基硅氧烷選自氟辛基三甲氧基硅烷、九氟己基三甲氧基硅烷、全氟十烷基三氯硅烷、十二氟庚基丙基三甲氧基硅烷、十三氟辛基三甲氧基硅烷、十三氟辛基三乙氧基硅烷和十七氟癸基三甲氧基硅烷中的一種或多種。

8.一種光動力超疏水型抗感染涂層，其特征在于，由權利要求1~7任一項所述的制備方法制備得到。