[發明專利]一種鍍鎳工藝在審
| 申請號: | 201811452238.2 | 申請日: | 2018-11-30 |
| 公開(公告)號: | CN111254469A | 公開(公告)日: | 2020-06-09 |
| 發明(設計)人: | 李曉毛 | 申請(專利權)人: | 余姚市晶易光伏發電有限公司 |
| 主分類號: | C25D5/14 | 分類號: | C25D5/14;C25D3/12 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 315420 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 工藝 | ||
1.一種鍍鎳工藝,其特征在于,包括如下步驟:將內置電鍍滾筒置入一次鎳打底溶液中進行滾筒電鍍,一次鎳打底溶液由濃度為150-180g/L的鹽酸、濃度為150-200g/L的氨基磺酸鎳、濃度為250-300g/L的氯化鎳以及水組成,溶液pH值為1-1.5,溶液溫度為35-40℃,電鍍電流密度為0.4-0.5安培/平方分米,電鍍時間為25-30min;再將內置電鍍滾筒置入二次鎳打底溶液中進行滾筒電鍍,二次鎳打底溶液由濃度為80-85g/L的硼酸、濃度為300-350g/L的硫酸鎳、濃度為60-65g/L的氯化鎳、濃度為10-25g/L的碘化鎳、濃度為20-35g/L的鉬酸鎳及水組成,溶液pH值為0.5-1,溶液溫度為25-30℃,電鍍電流密度為0.5-0.6安培/平方分米,電鍍時間為20-25min;3)再將內置電鍍滾筒置入三次鎳打底溶液中進行滾筒電鍍,三次鎳打底溶液由濃度為30-35mL/L的調和劑、濃度為250-270g/L的氯化鎳、濃度為200-250g/L的黑鎳鹽、濃度為150-200g/L的氨基磺酸鎳及水組成,溶液pH值為0.8-1.2,電鍍電壓為4-5V,電鍍時間為5-8min。
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