[發明專利]掩模對、兩面曝光裝置及掩模更換方法

在審

• 申請號: 201811451346.8
• 申請日: 2018-11-30
• 公開（公告）號: CN109976086A
• 公開（公告）日: 2019-07-05
• 發明（設計）人: 名古屋淳
• 申請（專利權）人: 株式會社阿迪泰克工程
• 主分類號: G03F1/42
• 分類號: G03F1/42;G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 徐殿軍

1.一種掩模對，該掩模對由搭載于將基板的兩面曝光的兩面曝光裝置的第一掩模與第二掩模構成，其特征在于，

所述第一掩模具有為了相對于所述基板進行校準而設置的第一掩模標記、以及為了相對于所述第二掩模進行校準而設置的第一輔助掩模標記，

所述第二掩模具有為了相對于所述基板進行校準而設置的第二掩模標記、以及為了相對于所述第一掩模進行校準而設置的第二輔助掩模標記，

所述第一掩模標記與所述第二掩模標記在所述基板的寬度方向上的分離距離為所述基板的寬度以下，

所述第一輔助掩模標記與所述第二輔助掩模標記在所述基板的寬度方向上的分離距離大于所述基板的寬度。

2.一種兩面曝光裝置，其特征在于，

具備：

輸送系統，將被卷成卷的柔性的基板拉出并間歇性地進給；

權利要求1所述的掩模對，配置于夾著被進給的所述基板的位置；以及

曝光單元，在所述輸送系統使所述基板停止而進行校準后，分別通過所述第一掩模、第二掩模向所述基板照射光，對所述基板的兩面進行曝光，

所述基板具有相對于應曝光的區域以規定的位置關系設置的校準標記，

設置有：

相機，能夠對所述第一掩模標記、所述第二掩模標記以及所述基板的所述校準標記進行攝影；

相機移動機構，使所述相機移動；以及

校準機構，利用來自于對所述第一掩模標記、所述第二掩模標記以及所述基板的所述校準標記進行了攝影的所述相機的攝影數據，將所述第一掩模、第二掩模相對于所述基板的應曝光的區域進行對位，

所述相機移動機構是如下機構：能夠使所述相機在為了將所述第一掩模、第二掩模相對于所述基板校準而對所述第一掩模標記及所述第二掩模標記進行攝影的基板校準位置，以及為了將所述第一掩模、第二掩模彼此校準而對所述第一輔助掩模標記及所述第二輔助掩模標記進行攝影的掩模校準位置之間移動。

3.一種兩面曝光裝置，其特征在于，

具備：

輸送系統，將被卷成卷的柔性的基板拉出并間歇性地進給；

權利要求1所述的掩模對，配置于夾著被進給的所述基板的位置；以及

曝光單元，在所述輸送系統使所述基板停止而進行校準后，分別通過所述第一掩模、第二掩模向所述基板照射光，對所述基板的兩面進行曝光，

所述基板具有相對于應曝光的區域以規定的位置關系設置的校準標記，

設置有：

相機，能夠對所述第一掩模標記、所述第二掩模標記以及所述基板的所述校準標記進行攝影；以及

校準機構，利用來自于對所述第一掩模標記、所述第二掩模標記以及所述基板的所述校準標記進行了攝影的所述相機的攝影數據，將所述第一掩模、第二掩模相對于所述基板的應曝光的區域進行對位，

所述相機配置于為了將所述第一掩模、第二掩模相對于所述基板校準而對所述第一掩模標記及所述第二掩模標記進行攝影的基板校準位置，并且設置有不同于所述相機的另一相機，所述另一相機配置于為了將所述第一掩模、第二掩模彼此校準而對所述第一輔助掩模標記及所述第二輔助掩模標記進行攝影的掩模校準位置。

4.一種掩模更換方法，用于在將被卷成卷的柔性的基板拉出并間歇性地進給、并將被進給的所述基板的兩面在曝光作業位置進行曝光的兩面曝光裝置中，對在曝光作業位置隔著所述基板而配置的一對第一掩模、第二掩模進行更換，其特征在于，

具有如下步驟：

更換步驟，以在所述曝光作業位置保留著所述基板的狀態，對所述第一掩模、第二掩模的至少一個掩模進行更換；以及

掩模校準步驟，在所述更換步驟之后，以在所述曝光作業位置保留著所述基板的狀態，將第一掩模、第二掩模相互對位，

所述第一掩模具有為了相對于所述基板進行校準而設置的第一掩模標記、以及為了相對于所述第二掩模進行校準而設置的第一輔助掩模標記，

所述第二掩模具有為了相對于所述基板進行校準而設置的第二掩模標記、以及為了相對于所述第一掩模進行校準而設置的第二輔助掩模標記，

所述第一掩模標記與所述第二掩模標記在所述基板的寬度方向上的分離距離為所述基板的寬度以下，

所述第一輔助掩模標記與所述第二輔助掩模標記在所述基板的寬度方向上的分離距離大于所述基板的寬度，

在所述掩模校準步驟中，在離開了所述基板的位置將所述第一輔助掩模標記與所述第二輔助掩模標記重疊，從而將所述第一掩模、第二掩模相互對位。