[發(fā)明專利]電子照相感光構(gòu)件、處理盒和電子照相設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811443540.1 | 申請(qǐng)日: | 2018-11-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109976113B | 公開(公告)日: | 2023-04-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 姉崎隆志;佐藤太一;藤井淳史 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 佳能株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G03G5/14 | 分類號(hào): | G03G5/14 |
| 代理公司: | 北京魏?jiǎn)W(xué)律師事務(wù)所 11398 | 代理人: | 魏?jiǎn)W(xué) |
| 地址: | 日本東京都大*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電子 照相 感光 構(gòu)件 處理 設(shè)備 | ||
1.一種電子照相感光構(gòu)件,其依次包括:
支承構(gòu)件;
導(dǎo)電層;和
感光層,
其特征在于,所述導(dǎo)電層包含對(duì)于波長(zhǎng)為780nm的光線具有折射率Rb的粘結(jié)劑樹脂、對(duì)于所述光線具有折射率Rc的導(dǎo)電性第一金屬氧化物顆粒、和對(duì)所述光線具有折射率Rh的第二金屬氧化物顆粒,所述折射率Rb、Rc和Rh滿足以下關(guān)系:
|Rb-Rc|≤0.35;和
|Rb-Rh|≥0.65,并且
其中所述導(dǎo)電層的體積電阻率為1.0×106Ω·cm至1.0×1013Ω·cm,所述第一金屬氧化物顆粒的比重Sc與所述第二金屬氧化物顆粒的比重Sh的比率Sc/Sh為0.85至1.20,并且所述第二金屬氧化物顆粒包含選自由鈦酸鍶、鈦酸鋇和氧化鈮組成的組中的至少一種金屬氧化物的顆粒。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子照相感光構(gòu)件,其中所述第一金屬氧化物顆粒的粉末電阻率為1.0Ω·cm至1.0×104Ω·cm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子照相感光構(gòu)件,其中所述第一金屬氧化物顆粒包含涂覆有氧化錫的硫酸鋇顆粒。
4.一種電子照相感光構(gòu)件,其依次包括:
支承構(gòu)件;
導(dǎo)電層;和
感光層,
其特征在于,所述導(dǎo)電層包含粘結(jié)劑樹脂、第一金屬氧化物顆粒、和第二金屬氧化物顆粒,
其中所述第一金屬氧化物顆粒包含涂覆有氧化錫的硫酸鋇顆粒,并且所述第二金屬氧化物顆粒包含選自由鈦酸鍶、鈦酸鋇和氧化鈮組成的組中的至少一種金屬氧化物的顆粒,并且
其中所述導(dǎo)電層的體積電阻率為1.0×108Ω·cm至1.0×1012Ω·cm。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電子照相感光構(gòu)件,其中所述粘結(jié)劑樹脂為酚醛樹脂和聚氨酯樹脂中的一種。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電子照相感光構(gòu)件,其中所述第一金屬氧化物顆粒的含量相對(duì)于所述導(dǎo)電層的總體積為15體積%至40體積%。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電子照相感光構(gòu)件,其中所述導(dǎo)電層中的所述第一金屬氧化物顆粒的含量與所述第二金屬氧化物顆粒的含量的以體積計(jì)的比率為1:1至4:1。
8.一種處理盒,其能夠可拆卸地安裝至電子照相設(shè)備,其特征在于,所述處理盒包括:
根據(jù)權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的電子照相感光構(gòu)件;和
選自由充電裝置、顯影裝置、轉(zhuǎn)印裝置和清潔裝置組成的組中的至少一種裝置,所述至少一種裝置與所述電子照相感光構(gòu)件被一體化地支承。
9.一種電子照相設(shè)備,其特征在于,其包括:
根據(jù)權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的電子照相感光構(gòu)件;
充電裝置;
曝光裝置;
顯影裝置;和
轉(zhuǎn)印裝置。
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