[發(fā)明專利]ICP等離子制粉設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811440138.8 | 申請日: | 2018-11-29 |
| 公開(公告)號: | CN109304474B | 公開(公告)日: | 2023-10-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 沈維佳;費(fèi)穎杰;周偉偉;馮素剛;楊曉兵;王桂陽 | 申請(專利權(quán))人: | 中天智能裝備有限公司 |
| 主分類號: | B22F9/14 | 分類號: | B22F9/14 |
| 代理公司: | 南京鐘山專利代理有限公司 32252 | 代理人: | 戴朝榮 |
| 地址: | 226009 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | icp 等離子 制粉 設(shè)備 | ||
1.一種ICP等離子制粉設(shè)備,其特征在于:包含送絲裝置、ICP等離子本體、冷水系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、真空泵和旋風(fēng)裝置,ICP等離子本體包含環(huán)形支架、粉末冷卻器彎管、等離子炬頭和殼體,環(huán)形支架、粉末冷卻器彎管和等離子炬頭設(shè)置在殼體內(nèi)側(cè),環(huán)形支架固定設(shè)置,粉末冷卻器彎管固定在環(huán)形支架下側(cè),送絲裝置設(shè)置在環(huán)形支架的上方,等離子炬頭設(shè)置在環(huán)形支架下側(cè)并且位于送絲裝置正下方,等離子炬頭沿豎直方向設(shè)置并且等離子炬頭上端端部開有沿豎直方向開設(shè)的通孔,金屬絲從送絲裝置出料沿豎直方向從等離子炬頭上端通孔內(nèi)穿入等離子炬頭并沿等離子炬頭豎直中軸線向下穿出等離子炬頭,粉末冷卻器彎管與冷水系統(tǒng)連接,等離子炬頭與供氣系統(tǒng)連接,旋風(fēng)裝置通過真空泵與殼體內(nèi)腔連通。
2.按照權(quán)利要求1所述的ICP等離子制粉設(shè)備,其特征在于:所述送絲裝置包含送絲支架、四個送絲輪、送絲驅(qū)動電機(jī)、送絲盤和送絲導(dǎo)向管,送絲盤轉(zhuǎn)動設(shè)置在送絲支架上側(cè),四個送絲輪分為兩組并且轉(zhuǎn)動設(shè)置在送絲支架上,兩組送絲輪沿豎直方向上下設(shè)置并且每組兩個送絲輪相互左右嚙合設(shè)置在送絲盤下方,其中一個送絲輪與送絲驅(qū)動電機(jī)連接由送絲驅(qū)動電機(jī)驅(qū)動旋轉(zhuǎn),送絲導(dǎo)向管沿豎直方向設(shè)置并且送絲導(dǎo)向管固定在送絲支架上,送絲導(dǎo)向管上端位于兩組送絲輪正下方。
3.按照權(quán)利要求1所述的ICP等離子制粉設(shè)備,其特征在于:所述送絲裝置與等離子炬頭之間設(shè)置有剛玉套管,剛玉套管沿豎直方向設(shè)置并且剛玉套管上端通過快插接頭固定在送絲導(dǎo)管下端,剛玉套管下端設(shè)置在等離子炬頭上端通孔上側(cè)。
4.按照權(quán)利要求1所述的ICP等離子制粉設(shè)備,其特征在于:所述等離子炬頭包含炬頭燃燒氣體管體、炬頭控制氣體管體、炬頭冷卻氣體管體和炬頭支架,通孔設(shè)置在炬頭支架上端并且沿豎直方向貫穿炬頭支架上端端面,炬頭支架為下端開口的筒體外殼并且炬頭支架下端內(nèi)壁上設(shè)置有三層臺階結(jié)構(gòu),炬頭燃燒氣體管體、炬頭控制氣體管體和炬頭冷卻氣體管體由內(nèi)向外依次套設(shè)設(shè)置,炬頭燃燒氣體管體、炬頭控制氣體管體和炬頭冷卻氣體管體上端固定在炬頭支架內(nèi)壁上并且分別對應(yīng)設(shè)置在一層臺階結(jié)構(gòu)上,每層臺階結(jié)構(gòu)分別開設(shè)有兩個進(jìn)氣口,兩個進(jìn)氣口均沿臺階結(jié)構(gòu)切線方向設(shè)置并且兩個進(jìn)氣口以等離子炬頭橫截面中心點(diǎn)呈點(diǎn)對稱設(shè)置。
5.按照權(quán)利要求4所述的ICP等離子制粉設(shè)備,其特征在于:所述炬頭支架包含燃燒氣體支架、炬頭控制氣體支架和炬頭冷卻氣體支架,燃燒氣體支架、炬頭控制氣體支架和炬頭冷卻氣體支架內(nèi)壁上分別設(shè)置有一個臺階結(jié)構(gòu),燃燒氣體支架、炬頭控制氣體支架和炬頭冷卻氣體支架為環(huán)形支架并且截面為Z型,燃燒氣體支架、炬頭控制氣體支架和炬頭冷卻氣體支架依次相互嵌套固定構(gòu)成炬頭支架。
6.按照權(quán)利要求1所述的ICP等離子制粉設(shè)備,其特征在于:所述等離子炬頭上設(shè)置有炬頭提升機(jī)構(gòu),炬頭提升機(jī)構(gòu)包含提升支架、豎直滑竿和提升氣缸,提升支架為水平設(shè)置的L型支架,等離子炬頭固定在L型支架側(cè)面,三根豎直滑竿呈三角形分布并且三根豎直滑竿下端分別固定在L型支架上側(cè)面上,環(huán)形支架上設(shè)置由于豎直滑竿匹配的滑竿套,豎直滑竿上端穿過滑竿套滑動設(shè)置在滑竿套內(nèi),提升氣缸沿豎直方向固定在環(huán)形支架上側(cè),L型支架固定在提升氣缸的活塞桿下端由提升氣缸驅(qū)動沿豎直方向升降。
7.按照權(quán)利要求1所述的ICP等離子制粉設(shè)備,其特征在于:所述ICP等離子本體還包含同軸電纜機(jī)構(gòu),同軸電纜機(jī)構(gòu)設(shè)置在等離子炬頭外側(cè)對等離子炬頭內(nèi)部金屬絲進(jìn)行預(yù)熱。
8.按照權(quán)利要求7所述的ICP等離子制粉設(shè)備,其特征在于:所述同軸電纜機(jī)構(gòu)包含感應(yīng)線圈、同軸電纜和高頻發(fā)生裝置,同軸電纜一端穿出高頻發(fā)生裝置并且沿水平方向設(shè)置,感應(yīng)線圈呈螺旋形設(shè)置并且套設(shè)在等離子炬頭外側(cè),感應(yīng)線圈一端與同軸電纜連接,感應(yīng)線圈另一端穿入高頻發(fā)生裝置與同軸電纜構(gòu)成回路從而為感應(yīng)線圈提供高頻電流。
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