[發(fā)明專利]一種厚干膜顯影工藝在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811434278.4 | 申請(qǐng)日： | 2018-11-28 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN111240161A | 公開(kāi)（公告）日： | 2020-06-05 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 曾再興;陳世彥;于德強(qiáng) | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 江西一諾新材料有限公司 |
| 主分類號(hào)： | G03F7/30 | 分類號(hào)： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 寧波市鄞州甬致專利代理事務(wù)所(普通合伙) 33228 | 代理人： | 黃宗熊 |
| 地址： | 341600 江西省*** | 國(guó)省代碼： | 江西;36 |
| 權(quán)利要求書(shū)： | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū)： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 厚干膜 顯影 工藝 | ||
1.一種厚干膜顯影工藝，其特征在于：包括以下步驟：
S1：將干膜顯影槽用去離子水清洗干凈；
S2：向干膜顯影槽中加入干膜顯影劑；
S3：將待顯影的基片可拆卸地與支撐框連接；
S4：將支撐框連同基片送入顯影槽內(nèi)的傳送滾輪，噴淋浸泡；
S5：顯影結(jié)束之后，取出已顯影的基片，清洗干凈，并吹干。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的厚干膜顯影工藝，其特征在于：S3中，所述基片與支撐框通過(guò)耐高溫膠帶連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的厚干膜顯影工藝，其特征在于：S3中，用支撐網(wǎng)代替所述支撐框，所述支撐網(wǎng)與待顯影的基片可拆卸地連接，所述支撐網(wǎng)的網(wǎng)線與基板顯影線路均不重合。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的厚干膜顯影工藝，其特征在于：S3中，所述支撐框的厚度大于基片的厚度。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的厚干膜顯影工藝，其特征在于：S3中，所述支撐框的厚度為2mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的厚干膜顯影工藝，其特征在于：S3中，所述基片與支撐網(wǎng)通過(guò)耐高溫膠帶連接。
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G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
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