[發明專利]一種義齒膜層制備方法

有效

• 申請號: 201811434162.0
• 申請日: 2018-11-28
• 公開（公告）號: CN109512678B
• 公開（公告）日: 2022-04-08
• 發明（設計）人: 簡明德;黃衛東;許明三;楊寶華
• 申請（專利權）人: 福建工程學院
• 主分類號: A61K6/838
• 分類號: A61K6/838;A61K6/831;A61K6/80;A61K6/20;A61K6/15;A61C13/00;A61C13/09;C23C24/10
• 代理公司: 福州君誠知識產權代理有限公司 35211
• 代理人: 張耀

1.一種義齒膜層制備方法，其特征在于：所述膜層包括由內之外依序設置在義齒表面的基底層、第一過渡層、第二過渡層和面層組成；

所述制備方法包括以下步驟：

1）取粉末狀的納米羥基磷灰石、石墨烯和氧化鋯作為原料；

2）將納米羥基磷灰石作為基底層涂料，備用；將納米羥基磷灰石和二氧化鋯混合均勻后作為第一過渡層涂料，備用；將納米羥基磷灰石、二氧化鋯和石墨烯混合均勻后作為第二過渡層涂料，備用；將二氧化鋯和石墨烯混合均勻后作為面層涂料，備用；所述步驟2)中，第一過渡層涂料中納米羥基磷灰石為60wt%，二氧化鋯40 wt%；第二過渡層涂料中納米羥基磷灰石為30wt%，二氧化鋯50 wt%，石墨烯為20 wt%；面層涂料中二氧化鋯70wt%，石墨烯為30wt%；

3）制備基底層：將基底層涂料用壓片設備在義齒的表面形成預置粉末層，然后采用激光熔覆的方法形成所述基底層；

制備第一過渡層：將第一過渡層涂料用壓片設備在上述成型的基底層表面形成預置粉末層，然后采用激光熔覆的方法形成所述第一過渡層；

制備第二過渡層：將第二過渡層涂料用壓片設備在上述成型的第一過渡層表面形成預置粉末層，然后采用激光熔覆的方法形成所述第二過渡層；

制備面層：將面層涂料用壓片設備在上述成型的第二過渡層表面形成預置粉末層，然后采用激光熔覆的方法形成所述面層；

最終在義齒表面形成石墨烯-二氧化鋯-納米羥基磷灰石梯度復合膜層；驟3）中，制備基底層、第一過渡層、第二過渡層和面層所采用激光熔覆方法的工藝參數均為：功率800-2500W，氬氣流量1200-2400ml/min，掃描速度2-8mm/s，激光頭傾斜角0-30度，離焦量10-30mm；

所述基底層的厚度為2-5um，第一過渡層的厚度為3-7um，第二過渡層的厚度為5-10um，面層的厚度為15-20um。

2.根據權利要求1所述的一種義齒膜層制備方法，其特征在于：所述石墨烯的粒徑為5-50um，二氧化鋯的粒徑為50-100um，納米羥基磷灰石的粒徑為50-100nm。