[發明專利]基板檢查裝置及基板檢查方法

有效

• 申請號: 201811433244.3
• 申請日: 2018-11-28
• 公開（公告）號: CN109974598B
• 公開（公告）日: 2021-05-28
• 發明（設計）人: 洪映周;洪德和;金玟奎;崔楨熏
• 申請（專利權）人: 株式會社高迎科技
• 主分類號: G01B11/06
• 分類號: G01B11/06
• 代理公司: 北京青松知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11384
• 代理人: 鄭青松

1.一種基板檢查裝置，其中，包括：

第一光源，其朝向混合有熒光染料的基板的涂覆膜照射紫外線；

第一光傳感器，其捕獲從所述紫外線照射的所述涂覆膜發生的熒光，并獲得所述基板的二維圖像；

存儲器，其存儲預先設置的關于所述基板上的關心區域的信息；

處理器，其基于所述關心區域的信息和所述二維圖像，導出所述基板的多個區域中的一個區域；

第二光源，其朝向所述一個區域照射激光；及

第二光傳感器，其獲得借助于所述激光而從所述一個區域發生的光干涉數據，

所述處理器基于所述光干涉數據，導出關于所述一個區域的涂覆膜的厚度，

所述關心區域為在所述基板上包括元件的電極的區域。

2.根據權利要求1所述的基板檢查裝置，其中，

所述處理器基于所述二維圖像，導出關于所述多個區域各個的涂覆膜的涂覆量，將所述多個區域中涂覆量為預先設置量以下的區域決定為所述一個區域。

3.根據權利要求1所述的基板檢查裝置，其中，

所述處理器基于所述二維圖像，將所述基板中判斷為有缺陷的區域決定為所述一個區域。

4.根據權利要求1所述的基板檢查裝置，其中，

從所述涂覆膜的表面反射的反射光被用作基準光。

5.根據權利要求4所述的基板檢查裝置，其中，

所述處理器基于所述光干涉數據，獲得顯示與所述涂覆膜的深度方向對應的沿第一軸方向的剖面的剖面圖像，

以所述剖面圖像上的邊界線為基礎，決定關于所述一個區域的涂覆膜的所述厚度。

6.根據權利要求4所述的基板檢查裝置，其中，

所述涂覆膜的表面對所述激光的反射率，根據混合有所述熒光染料的所述涂覆膜的熒光染料混合率而決定，

所述熒光染料混合率設置為使得所述反射率超過預先設置的基準值的值。

7.根據權利要求4所述的基板檢查裝置，其中，

所述涂覆膜借助于在丙烯酸、烏拉坦、聚氨酯、硅、環氧、UV(Ultra Violet)固化物質及IR(Infra Red)固化物質中選擇的至少一種物質而形成。

8.根據權利要求4所述的基板檢查裝置，其中，

所述涂覆膜的表面以曲面形成。

9.一種基板檢查方法，其中，包括：

朝向混合有熒光染料的基板的涂覆膜照射紫外線的步驟；

捕獲從所述紫外線照射的所述涂覆膜發生的熒光并獲得所述基板的二維圖像的步驟；

基于預先設置的關于所述基板上的關心區域的信息與所述二維圖像，導出所述基板的多個區域中的一個區域的步驟；

朝向所述一個區域照射激光，獲得借助于所述激光而從所述一個區域發生的光干涉數據的步驟；及

基于所述光干涉數據，導出關于所述一個區域的涂覆膜的厚度的步驟；

其中，所述關心區域為在所述基板上包括元件的電極的區域。

10.根據權利要求9所述的基板檢查方法，其中，

所述導出一個區域的步驟包括：

基于所述二維圖像，導出關于所述多個區域各個的涂覆膜的涂覆量的步驟；及

將所述多個區域中涂覆量為預先設置量以下的區域決定為所述一個區域的步驟。

11.根據權利要求9所述的基板檢查方法，其中，

所述關心區域由使用者預先設置。

12.根據權利要求9所述的基板檢查方法，其中，

所述導出一個區域的步驟包括：

基于所述二維圖像，將所述基板中判斷為有缺陷的區域決定為所述一個區域的步驟。