[發(fā)明專利]一種激光干涉光刻系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811433077.2
• 申請日: 2018-11-28
• 公開（公告）號: CN109521651B
• 公開（公告）日: 2021-04-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 顧芯銘;劉雨哲;周延民
• 申請（專利權(quán)）人: 吉林大學(xué)
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B27/09;G02B27/48
• 代理公司: 北京市誠輝律師事務(wù)所 11430
• 代理人: 范盈

1.一種激光干涉光刻系統(tǒng)，其特征在于：包括依次排列的雙束激光產(chǎn)生組件(1)、兩組光束整形組件(2)和兩組干涉組件(3)；

所述雙束激光產(chǎn)生組件(1)中每一束激光產(chǎn)生組件包括一組光束產(chǎn)生單元(4)，相鄰所述光束產(chǎn)生單元(4)之間設(shè)置有偏振鏡(5)和Q開關(guān)(6)；

所述光束整形組件(2)包括依次排列的擴(kuò)束準(zhǔn)直單元(7)和光束整形單元(8)；

所述干涉組件(3)包括分光單元(9)和偏振態(tài)調(diào)制單元(10)；

所述擴(kuò)束準(zhǔn)直單元(7)的擴(kuò)束倍數(shù)為2，所述擴(kuò)束準(zhǔn)直單元(7)包括若干光學(xué)鏡片和鏡筒；

所述光束產(chǎn)生單元(4)包括依次排列45°全反射鏡(11)、泵浦光源(12)，腔鏡輸出鏡(13)，所述泵浦光源(12)與Nd:YAG晶體(14)相互平行設(shè)置；所述45°全反射鏡(11)之間設(shè)置有所述偏振鏡(5)和所述Q開關(guān)(6)。

2.如權(quán)利要求1所述的激光干涉光刻系統(tǒng)，其特征在于：所述光學(xué)鏡片采用K9玻璃，所述光學(xué)鏡片鍍有增透膜AR@1064nm，所述擴(kuò)束準(zhǔn)直單元(7)入口直徑ф10mm，出口直徑ф20mm。

3.如權(quán)利要求1所述的激光干涉光刻系統(tǒng)，其特征在于：所述光束整形單元(8)為方形光束整形器，所述方形光束整形器包括若干光學(xué)鏡片和鏡筒，所述光學(xué)鏡片采用K9玻璃，所述光學(xué)鏡片鍍有增透膜AR@1064nm，所述光束整形單元(8)入口直徑為ф20mm，出口為20mmx20mm。

4.如權(quán)利要求1所述的激光干涉光刻系統(tǒng)，其特征在于：所述偏振態(tài)調(diào)制單元(10)包括若干反射鏡(15)和若干半波片(16)，所述反射鏡(15)用于調(diào)整光束之間的夾角，所述半波片(16)用于調(diào)整光束的偏振態(tài)。

5.如權(quán)利要求4所述的激光干涉光刻系統(tǒng)，其特征在于：所述反射鏡(15)為平面反射鏡，所述平面反射鏡采用K9玻璃制造，所述平面反射鏡尺寸為ф40mm，所述平面反射鏡反射面鍍?nèi)瓷淠R@1064nm。

6.如權(quán)利要求1～5中任一項(xiàng)所述的激光干涉光刻系統(tǒng)，其特征在于：所述分光單元(9)包括半反半透鏡，所述半反半透鏡采用K9玻璃制造，所述半反半透鏡尺寸為ф40mm，所述半反半透鏡分束比為1:1。