[發明專利]液體處理裝置有效
| 申請號： | 201811429807.1 | 申請日： | 2018-11-27 |
| 公開（公告）號： | CN109867332B | 公開（公告）日： | 2021-11-05 |
| 發明（設計）人： | 松田源一郎;北井崇博;三宅岳;山田芳生 | 申請（專利權）人： | 松下知識產權經營株式會社 |
| 主分類號： | C02F1/461 | 分類號： | C02F1/461;C02F1/72;C02F1/32 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人： | 高穎 |
| 地址： | 日本國*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 液體 處理 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種液體處理裝置，具備：
筒狀的處理槽，一個端部閉口且截面形狀為圓形；
第一電極，配置于所述處理槽的中心軸上的一端側且形狀為棒狀；
第二電極，配置于所述處理槽的另一端側且由包含銅或鐵的金屬形成；
脈沖電源，將所述第一電極作為陽極，在所述第一電極與所述第二電極之間施加正的脈沖電壓；
直流電源，將所述第二電極作為陽極，在所述第一電極與所述第二電極之間施加負的電壓；和
液體導入口，通過從所述處理槽的圓形筒狀的切線方向導入液體，從而使所述液體在所述處理槽內回旋，并在所述液體的回旋流中產生氣相，所述脈沖電源所施加的脈沖電壓的脈沖寬度大于100ns且小于3μs。
2.根據權利要求1所述的液體處理裝置，其中，
所述液體處理裝置具備：
過氧化氫濃度計，與所述處理槽的另一端側連接，計測所述處理槽中處理后的處理液排出后存留的存留槽內的被處理液的過氧化氫濃度；
金屬離子濃度計，計測所述存留槽內的所述被處理液的金屬離子濃度；和
控制單元，按照所述過氧化氫濃度計以及所述金屬離子濃度計的值，對所述脈沖電源的動作頻率和所述直流電源所施加的電壓進行控制。
3.根據權利要求1或2所述的液體處理裝置，其中，
所述第一電極為棒狀，所述第二電極為板狀。
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