[發(fā)明專利]馬賽克拼接產(chǎn)品拼接區(qū)調(diào)整方法及裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811429414.0
• 申請日: 2018-11-27
• 公開（公告）號: CN109597224B
• 公開（公告）日: 2021-04-23
• 發(fā)明（設計）人: 丁華龍;李劍;單丹陽;褚維民;張斌;程校昌
• 申請（專利權(quán)）人: TCL華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號: G02F1/13
• 分類號: G02F1/13;G03F7/22
• 代理公司: 深圳市德力知識產(chǎn)權(quán)代理事務所 44265
• 代理人: 林才桂;劉巍

本發(fā)明涉及一種馬賽克拼接產(chǎn)品拼接區(qū)調(diào)整方法及裝置。該馬賽克拼接產(chǎn)品拼接區(qū)調(diào)整方法包括：步驟10、在曝光機臺坐標系中補正光罩的長度尺寸；步驟20、在曝光機臺坐標系中選定影響長度尺寸的照射并固定其坐標，使其成為不可移動的照射；對于拼接成一個整體的面板的多個照射，以其中不可移動的照射為參照，調(diào)整其余可移動的照射的坐標以使相鄰的照射的拼接處實現(xiàn)無縫接合。本發(fā)明還提供了一種馬賽克拼接產(chǎn)品拼接區(qū)調(diào)整裝置。本發(fā)明馬賽克拼接產(chǎn)品拼接區(qū)調(diào)整方法及裝置由于采用針對馬賽克拼接產(chǎn)品的新的優(yōu)化手法，使得拼接產(chǎn)品的亮暗不均得到控制；也使得面板的首件完成時間大幅縮短。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種馬賽克拼接產(chǎn)品拼接區(qū)調(diào)整方法及裝置。

背景技術(shù)

液晶顯示器(LCD)大部分為背光型液晶顯示器，其是由液晶顯示面板及背光模塊(backlight module)所組成。一般的液晶顯示面板包含彩色濾光片(Color Filter，CF)基板及薄膜晶體管(Thin Film Transistor，TFT)陣列基板。CF基板上設有多個彩色濾光片和共同電極。TFT陣列基板上設有多條彼此平行的掃描線、多條彼此平行的數(shù)據(jù)線、多個薄膜晶體管及像素電極。

有機發(fā)光二極管(OLED)具備自發(fā)光能力，因此不需背光源，同時具有對比度高、厚度薄、視角廣、反應速度快、可用于撓曲性面板、使用溫度范圍廣、構(gòu)造簡單等優(yōu)異特性，被認為是下一代的平面顯示器新興技術(shù)。

在顯示技術(shù)領(lǐng)域，平板顯示技術(shù)(LCD、OLED)面板尺寸逐漸變大，所以工廠端近接式曝光機臺(例如日本精工(NSK)近接式曝光機臺)需要以馬賽克(mosaic)拼接的方式進行大尺寸產(chǎn)品的曝光生產(chǎn)。從而拼接區(qū)的關(guān)鍵尺寸(CD)密集點會直接影響產(chǎn)品的亮暗不均(Mura)程度。拼接區(qū)關(guān)鍵尺寸不良，造成拼接亮暗不均，嚴重會導致模組制程(MOD)點燈會出現(xiàn)色偏等異常，降低產(chǎn)品的品質(zhì)。

參見圖1A及圖1B，圖1A為一種現(xiàn)有大尺寸面板馬賽克拼接布局示意圖，圖1B為相應的光罩設計示意圖。如圖1A所示，在玻璃基板1上布局設置有兩個第一尺寸的面板2和兩個第二尺寸的面板3，面板2可以為49英寸的面板，面板3可以為75英寸的面板；如圖1B所示，光罩4上設有用于特定一道光罩制程的圖案5、圖案61、圖案62及圖案63，利用曝光機臺照射光罩4可以在玻璃基板1上形成相應的膜層，該道光罩制程具體可以為形成黑色矩陣膜層的光罩制程，圖案5對應用于形成面板2的膜層，圖案61、圖案62及圖案63對應用于形成面板3的膜層；進行曝光制程時，玻璃基板1位置保持固定，調(diào)整光罩4與玻璃基板1的相對位置后利用曝光機照射光罩4進行曝光。圖1A中，每個虛線框表示曝光機臺通過光罩4的一個照射(shot)，也就是確定光罩4相對于玻璃基板1的位置后，曝光機臺根據(jù)光罩4的相應圖案對基板上相應材料的一次曝光；在此現(xiàn)有設計中，對于49英寸的面板2不采用拼接設計，每個面板2的膜層需要光罩4的圖案5在對應位置的一個照射直接進行曝光；對于75英寸的面板3采用拼接設計，每個面板3的膜層需要利用光罩4的圖案61、圖案62或者圖案63在對應位置分別進行六個照射以馬賽克拼接的方式進行曝光，相鄰的拼接在一起的兩個照射在拼接處重合并且形成馬賽克拼接區(qū)，從而拼接區(qū)的關(guān)鍵尺寸密集點會直接影響產(chǎn)品的亮暗不均程度；曝光機臺使用光罩4完成整個玻璃基板1的曝光，需要利用光罩4分別在對應位置進行十四個照射。

參見圖2A和2B，其分別為馬賽克拼接面板產(chǎn)品拼接區(qū)不良和拼接區(qū)優(yōu)所得到的產(chǎn)品品質(zhì)示意圖。參見圖2A，面板產(chǎn)品的拼接區(qū)關(guān)鍵尺寸不良，將造成拼接區(qū)亮暗不均，嚴重時導致模組制程點燈會出現(xiàn)色偏等異常，降低產(chǎn)品的品質(zhì)；因此亟需提供一種馬賽克拼接產(chǎn)品拼接區(qū)調(diào)整方法及裝置，改善拼接區(qū)亮暗不均，實現(xiàn)圖2B所示的產(chǎn)品品質(zhì)。

發(fā)明內(nèi)容

因此，本發(fā)明的目的在于提供一種馬賽克拼接產(chǎn)品拼接區(qū)調(diào)整方法及裝置，應對馬賽克拼接產(chǎn)品在調(diào)整時候的困擾，改善拼接區(qū)亮暗不均。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種馬賽克拼接產(chǎn)品拼接區(qū)調(diào)整方法，包括：

步驟10、在曝光機臺坐標系中補正光罩的長度尺寸；