[發明專利]一種非充分灌溉實驗栽培裝置

有效

• 申請號: 201811429003.1
• 申請日: 2018-11-27
• 公開（公告）號: CN109287324B
• 公開（公告）日: 2021-05-04
• 發明（設計）人: 王進鑫;黨倩楠;馮樹林
• 申請（專利權）人: 西北農林科技大學
• 主分類號: A01G9/02
• 分類號: A01G9/02;A01G25/06
• 代理公司: 西安通大專利代理有限責任公司 61200
• 代理人: 范巍

本發明公開了一種非充分灌溉實驗栽培裝置，包括漏斗、栽培桶，栽培桶上螺旋式分布四根滲水管，滲水管上方末端與兩通接口相連，兩通接口與可進行拆卸的輸水管相連，輸水管分別與五通接口相連，五通接口與漏斗相連，滲水孔均勻分布于四根滲水管上，排氣管、滲水管下方末端連接栽培桶底部三通接口。本發明可以使栽培桶中水分快速達到平衡，同時使水分分布更加均勻，既滿足了非充分灌溉栽培實驗對水分精準控制的要求，又提高了非充分灌溉實驗效率，確保了實驗數據的準確性與實驗結果的科學性。

技術領域

本發明屬于灌溉裝置領域，涉及一種非充分灌溉實驗栽培桶及灌水裝置。

背景技術

在盆栽實驗中，其灌溉方式主要分為直接澆灌與管子插灌兩種方式。對于直接澆灌，基質(例如，土體)上層含水率很大，遠遠超過了田間持水量，而下層基質含水率則隨著深度增加逐漸減小，這樣就造成了整個基質的水分分布均勻度差，難以滿足非充分灌溉實驗的基本要求；同時由于水分的下滲與平衡過程需要相當長的時間，表層的大量水分會因蒸發而損失掉，嚴重影響了非充分灌溉實驗(例如，不同梯度干旱實驗)中基質水分控制的準確性與精度。對于管子插灌，這是一種將管子插入基質中進行灌溉的方式，這種方式的優點是從基質中進行灌水，從而避免了因表層蒸發而造成的水分損失。但是缺點是基質中管口處周圍首先達到濕潤，含水率很高，遠遠超過了田間持水量，且這種濕潤只是局部的，要達到整個基質的水分均勻分布也需要很長的時間。

中國專利CN207820539U公開了一種根層滲灌施肥系統，采用在主管上布置螺旋狀排列的多個支管的手段，解決了噴灌、滴灌無法對植物根部有效灌溉、施肥的問題，并通過回收避免浪費，一定程度上加快了水肥在植物根系部位的分散，但是依舊無法實現非充分灌溉條件下整個基質中水分的快速均勻分布，而且支管較主管的管徑減小，增加了流動阻力，需要使用額外的泵送措施才能確保水肥可以經滲灌管網達到灌溉位置。

中國專利CN205727247U公開了一種能夠自動澆水的盆栽盆，在盆體種植區底部布設螺旋盤繞的滲水管，并與種植區一側的蓄水區連通，解決了自動、可調澆灌問題，但是由于滲水管位于種植區底部，所以無法實現在整個基質中水分的快速均勻分布。

為了克服在非充分灌溉實驗中，目前的灌溉方式灌溉后基質內水分分布不均勻，并且水分達到平衡所需時間過長等缺陷，亟待提出一種可以在整個基質中實現水分的快速均勻分布的非充分灌溉實驗栽培裝置。

發明內容

本發明的目的在于提供一種非充分灌溉實驗栽培裝置，可以減少灌水時間，使基質中水分快速達到平衡，同時使基質中的水分分布更加均勻。

為達到上述目的，本發明采用了以下技術方案：

包括栽培桶以及沿栽培桶側壁分層布置的滲水孔，滲水孔每層布置多個，布置的所有滲水孔中任意兩個滲水孔在栽培桶周向上相間隔(即在周向上相互錯開位置)，所述栽培桶布置有滲水孔的區段與栽培桶的任意端(頂部桶口、桶底)之間相隔一定的距離(具體距離可根據控制或避免基質表面灌溉水分蒸發損失及灌溉水分在桶底累積對基質中水分均勻分布的影響而定)，栽培桶上設置有排氣口以及與滲水孔相連通的進水口。

優選的，所述栽培桶包括桶體以及設置于桶體側壁內外壁面之間空隙內的多個平行排布的滲水管，滲水管的兩端向桶體的對應端以螺旋方式延伸，滲水孔間隔設置在滲水管上，滲水孔與桶體內部相連通。

優選的，所述滲水管的下端與設置于桶體下端的環狀排氣管(可以在桶體內)相連，環狀排氣管與排氣口相連。

優選的，所述排氣口位于桶體的上端面上，排氣口上設置有排氣組件。

優選的，所述環狀排氣管包括用于連接滲水管的三通接口。

優選的，所述進水口包括位于桶體上方的漏斗，漏斗的直管段開口處設置有多通接口，多通接口的對應接口端設置有輸水管，各輸水管通過設置于桶體上端面處(例如，兩通接口位于桶體上部的桶體側壁內外壁面之間)的兩通接口與對應滲水管相連。