[發(fā)明專利]一種Mxene@殼聚糖@聚氨酯泡沫三維復(fù)合材料及其制備方法和應(yīng)用有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811425344.1 | 申請日: | 2018-11-27 |
| 公開(公告)號: | CN109535476B | 公開(公告)日: | 2020-12-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李曉鋒;李曉鵬;李岳;宋德奎;胡晨;閔芃;張好斌;于中振 | 申請(專利權(quán))人: | 北京化工大學(xué) |
| 主分類號: | C08J9/42 | 分類號: | C08J9/42;C08J9/40;G01L1/18;G01L9/06;C08L75/04;C08L5/08 |
| 代理公司: | 北京五月天專利商標代理有限公司 11294 | 代理人: | 張瑞豐 |
| 地址: | 100029 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 mxene 聚糖 聚氨酯 泡沫 三維 復(fù)合材料 及其 制備 方法 應(yīng)用 | ||
1.一種Mxene@殼聚糖@聚氨酯泡沫三維復(fù)合材料的制備方法,其特征在于,所述的Mxene@殼聚糖@聚氨酯泡沫是由Mxene納米片包覆于聚氨酯泡沫上并由殼聚糖作為“粘合劑”而得到的三維復(fù)合材料;基于 Mxene納米片和殼聚糖電性相反的原理,通過“片層堆疊”的方法,先浸漬一層殼聚糖后浸漬一層Mxene納米片,經(jīng)過1-5次的循環(huán)浸漬,通過靜電作用力使Mxene納米片在聚氨酯骨架之上包覆更為緊密,將Mxene納米片包覆上去之后,再經(jīng)離心脫除多余未完全包覆的Mxene納米片,最后真空干燥處理制備得到的;所述離心脫除為低速離心脫除,離心速度為100-1000rpm,真空干燥的溫度為30-60℃。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法制備得到的Mxene@殼聚糖@聚氨酯泡沫三維復(fù)合材料在制備傳感器中的應(yīng)用,其特征在于,所述傳感器為壓力傳感器。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的應(yīng)用,其特征在于,所述傳感器為壓阻式壓力傳感器。
4.一種壓阻式傳感器,其特征在于,所述的傳感器的傳感活性部件為權(quán)利要求1所述的制備方法制備得到的Mxene@殼聚糖@聚氨酯泡沫三維復(fù)合材料,Mxene與殼聚糖通過靜電作用力緊密結(jié)合;所述的聚氨酯泡沫的開孔孔徑大小為50-500μm。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的壓阻式傳感器,其特征在于,所述傳感器活性部件對應(yīng)的電阻值能夠在傳感器所處的壓力條件下發(fā)生變化時產(chǎn)生相應(yīng)變化。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的壓阻式傳感器,其特征在于,在外部應(yīng)力作用下,所述Mxene@殼聚糖@聚氨酯泡沫骨架上的微裂紋、泡孔距離、泡孔孔徑均會發(fā)生變化。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的壓阻式傳感器,其特征在于,所述的壓阻式傳感器為柔性可回彈壓阻式傳感器,還包括柔性聚酰亞胺@銅薄膜電極。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的壓阻式傳感器,其特征在于,所述的可回彈壓阻式傳感器是通過以下步驟組裝得到的:將聚酰亞胺薄膜清洗干凈,使用雙面膠將銅箔與聚酰亞胺薄膜粘合,使用導(dǎo)電銀膠將銅箔固定在復(fù)合泡沫上,并以銅導(dǎo)線引電極,從而得到柔性傳感器。
9.根據(jù)權(quán)利要求4-8中任一項所述的壓阻式傳感器的制備方法,其特征在于,包括步驟如下:
(1)將Mxene納米片分散到水中,制備Mxene納米片的水分散液,置于氮氣氛圍中保護;
(2)將殼聚糖溶于0.4wt%的醋酸水溶液中,制備殼聚糖水溶液;
(3)將清洗干凈的聚氨酯泡沫通過真空浸漬的方法浸漬于殼聚糖溶液中,隨后取出通過離心脫除的方法將多余的殼聚糖脫除,只留在聚氨酯泡沫骨架上一層殼聚糖,干燥;
(4)將包覆有殼聚糖的聚氨酯泡沫通過真空浸漬的方法浸漬于Mxene納米片的水分散液中,隨后取出通過離心脫除的方法將多余的Mxene納米片脫除,只留在聚氨酯泡沫骨架上一層Mxene納米片,干燥;
(5)步驟(3)和(4)重復(fù)1-5次,得到Mxene納米片包覆聚氨酯泡沫壓阻材料,裁剪成合適尺寸,Mxene/聚氨酯復(fù)合泡沫相對的兩個表面使用導(dǎo)電銀膠粘結(jié)銅電極以及導(dǎo)線構(gòu)成壓阻式傳感器。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的制備方法,其特征在于,步驟(1)所述的Mxene納米片分散液濃度為0.1-4mg/ml;步驟(1)所述的Mxene納米片的片層單邊尺寸在0.5-10μm之間,層數(shù)在1-10層之間;所述的Mxene納米片由鹽酸和氟化鋰選擇性刻蝕前驅(qū)體MAX相來獲得的;所述的前驅(qū)體MAX中,M相為過渡金屬元素,A為ⅢA或ⅣA元素,X為C或N元素。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的制備方法,其特征在于,步驟(1)所述的Mxene納米分散質(zhì)為Ti3C2Tx片層,其單邊片層大小在1-2μm之間,層數(shù)在1-3層之間。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京化工大學(xué),未經(jīng)北京化工大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201811425344.1/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C08J 加工;配料的一般工藝過程;不包括在C08B,C08C,C08F,C08G或C08H小類中的后處理
C08J9-00 高分子物質(zhì)加工成多孔或蜂窩狀制品或材料:它們的后處理
C08J9-02 .使用高分子在制備或改性過程中由單體或改性劑反應(yīng)而產(chǎn)生的發(fā)泡氣體
C08J9-04 .使用由預(yù)先加入的發(fā)泡劑所產(chǎn)生的發(fā)泡氣體
C08J9-16 .可膨脹粒子的制造
C08J9-22 .可膨脹粒子的后處理;形成泡沫產(chǎn)品
C08J9-24 .將粒子表面熔融和結(jié)合來形成空隙,如燒結(jié)





