[發(fā)明專利]圖像生成方法、裝置、設(shè)備及可讀存儲(chǔ)介質(zhì)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811424165.6
• 申請日: 2018-11-27
• 公開（公告）號: CN109784359A
• 公開（公告）日: 2019-05-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 尹斯星;檀婧
• 申請（專利權(quán)）人: 北京郵電大學(xué)
• 主分類號: G06K9/62
• 分類號: G06K9/62
• 代理公司: 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 吳會(huì)英;劉芳

1.一種圖像生成方法，其特征在于，包括：

將第一噪聲變量輸入訓(xùn)練后的生成器中，生成第一模擬數(shù)據(jù)；

將所述第一模擬數(shù)據(jù)輸入訓(xùn)練后的自編碼器的解碼器中，生成仿真圖像；

其中，所述訓(xùn)練后的生成器以對潛在特征分布和模擬數(shù)據(jù)分布的核密度估計(jì)結(jié)果的L1范數(shù)作為損失函數(shù)；所述潛在特征是利用所述訓(xùn)練后的自編碼器的編碼器對原始訓(xùn)練圖像降維后生成的；所述訓(xùn)練后的自編碼器是采用所述原始訓(xùn)練圖像進(jìn)行訓(xùn)練得到的。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述將第一噪聲變量輸入訓(xùn)練后的生成器中，生成第一模擬數(shù)據(jù)之前，還包括：

將原始訓(xùn)練圖像輸入訓(xùn)練后的自編碼器的編碼器中，獲得所述原始訓(xùn)練圖像的潛在特征；

將噪聲變量輸入生成器模型中，得到模擬數(shù)據(jù)；

對所述潛在特征進(jìn)行核密度估計(jì)，得到第一估計(jì)結(jié)果；

對所述模擬數(shù)據(jù)進(jìn)行核密度估計(jì)，得到第二估計(jì)結(jié)果；

將所述第一估計(jì)結(jié)果和第二估計(jì)結(jié)果的L1范數(shù)作為損失函數(shù)；

對所述生成器模型進(jìn)行訓(xùn)練，并在訓(xùn)練中采用所述損失函數(shù)對所述生成器模型的參數(shù)進(jìn)行約束；

調(diào)整所述生成器模型的參數(shù)，若所述損失函數(shù)達(dá)到最小，則確定所述生成器模型為訓(xùn)練后的生成器。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述核密度估計(jì)表示為：

其中，

代表帶寬為H的核函數(shù)，帶寬H是d維的對稱正定矩陣。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述核函數(shù)為高斯核函數(shù)；

所述高斯核函數(shù)表示為：

其中，帶寬H為對角矩陣，對角元素σ_i是被估計(jì)樣本第i維的標(biāo)準(zhǔn)差；

將計(jì)算概率分布的位置s設(shè)定為每一個(gè)樣本所在的位置。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述損失函數(shù)表示為：

其中，

為對潛在特征分布的核密度估計(jì)，

為對模擬數(shù)據(jù)分布的核密度估計(jì)。

6.一種圖像生成裝置，其特征在于，包括：

生成器模塊，用于將第一噪聲變量輸入訓(xùn)練后的生成器中，生成第一模擬數(shù)據(jù)；

解碼器模塊，用于將所述第一模擬數(shù)據(jù)輸入訓(xùn)練后的自編碼器的解碼器中，生成仿真圖像；

其中，所述訓(xùn)練后的生成器以對潛在特征分布和所述模擬數(shù)據(jù)分布的核密度估計(jì)結(jié)果的L1范數(shù)作為損失函數(shù)；所述潛在特征是利用所述訓(xùn)練后的自編碼器的編碼器對原始訓(xùn)練圖像降維后生成的；所述訓(xùn)練后的自編碼器是采用所述原始訓(xùn)練圖像進(jìn)行訓(xùn)練得到的。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于，還包括：

訓(xùn)練模塊，用于在所述生成器模塊將第一噪聲變量輸入訓(xùn)練后的生成器中，生成第一模擬數(shù)據(jù)之前，將原始訓(xùn)練圖像輸入訓(xùn)練后的自編碼器的編碼器中，獲得所述原始訓(xùn)練圖像的潛在特征；將噪聲變量輸入生成器模型中，得到模擬數(shù)據(jù)；對所述潛在特征進(jìn)行核密度估計(jì)，得到第一估計(jì)結(jié)果；對所述模擬數(shù)據(jù)進(jìn)行核密度估計(jì)，得到第二估計(jì)結(jié)果；將所述第一估計(jì)結(jié)果和第二估計(jì)結(jié)果的L1范數(shù)作為損失函數(shù)；對所述生成器模型進(jìn)行訓(xùn)練，并在訓(xùn)練中采用所述損失函數(shù)對所述生成器模型的參數(shù)進(jìn)行約束；調(diào)整所述生成器模型的參數(shù)，若所述損失函數(shù)達(dá)到最小，則確定所述生成器模型為訓(xùn)練后的生成器。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于，所述核密度估計(jì)表示為：

其中，

代表帶寬為H的核函數(shù)，帶寬H是d維的對稱正定矩陣。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其特征在于，所述核函數(shù)為高斯核函數(shù)；

所述高斯核函數(shù)表示為：

其中，帶寬H為對角矩陣，對角元素σ_i是被估計(jì)樣本第i維的標(biāo)準(zhǔn)差；

將計(jì)算概率分布的位置s設(shè)定為每一個(gè)樣本所在的位置。