[發明專利]一種二氧化鍺制備水解反應釜

在審

• 申請號: 201811424027.8
• 申請日: 2018-11-27
• 公開（公告）號: CN109261108A
• 公開（公告）日: 2019-01-25
• 發明（設計）人: 陳建國;聶玉
• 申請（專利權）人: 衡陽恒榮高純半導體材料有限公司
• 主分類號: B01J19/18
• 分類號: B01J19/18;C01G17/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明涉及一種二氧化鍺制備水解反應釜，包括外殼與內膽，所述內膽將所述外殼分隔為反應腔和排水腔；所述內膽底部為傾斜面，其底部設置有若干濾水孔，每個所述濾水孔一側均鉸接有孔塞；所述外殼頂部設有進液口與進水孔，水管穿過所述進水孔分為兩路，一路進入所述排水腔形成垂直于所述濾水孔的下噴淋管，另一路進入所述反應腔成為上噴淋管；所述水管能夠在外力作用下提起一段距離使所述下噴淋管頂開所述孔塞進入反應腔；滿鋪所述反應腔底部設有過濾層，所述過濾層與所述水管固定連接；所述外殼側壁開設有與所述排水腔相通的排水口，以及與所述反應腔相通的出料口。本反應釜能夠對其中的固體進行全方位的清洗。

技術領域

本發明涉及金屬冶煉設備技術領域，更具體地，本發明涉及一種二氧化鍺制備水解反應釜。

背景技術

在用四氯化鍺提取二氧化鍺的工藝過程中，要將鍺精礦經氯化蒸餾后得到的粗四氯化鍺經復蒸純化除去粗品中的砷雜質，然后通過精餾提純得到高純四氯化鍺，再將高純四氯化鍺在水解設備中進行水解生成二氧化鍺，經洗滌烘干后即得高純二氧化鍺。

其中，對四氯化鍺水解后所得固體需要用高純水對其進行反復清洗，直至清洗液中不含氯離子為止。現有技術中，對水解后的固體進行清洗過程中，通常將水從上噴淋至反應釜中，對其進行清洗，該種方式不能夠對該固體進行全方位的沖刷清洗，往往需要清洗多遍，如果清洗不徹底，所得二氧化鍺會存留雜質。

因此，需要一種能夠對水解后的二氧化鍺全方位清洗的設備，保證二氧化鍺純度。

發明內容

本發明為解決上述問題，提供了一種二氧化鍺制備水解反應釜，能夠保證對水解后的二氧化鍺進行全方位清洗。

本發明的反應釜可以通過如下技術方案來實現：一種二氧化鍺制備水解反應釜，包括外殼與內膽，所述內膽將所述外殼分隔為反應腔和排水腔；

所述內膽底部為傾斜面，其底部設置有若干濾水孔，每個所述濾水孔一側均鉸接有孔塞；

所述外殼頂部設有進液口與進水孔，水管穿過所述進水孔分為兩路，一路進入所述排水腔形成垂直于所述濾水孔的下噴淋管，另一路進入所述反應腔成為上噴淋管；所述水管能夠在外力作用下提起一段距離使所述下噴淋管頂開所述孔塞進入反應腔；所述下噴淋管外徑小于所述濾水孔直徑；

滿鋪所述反應腔底部設有過濾層，所述過濾層與所述水管固定連接，能夠被所述水管帶動向上形成一定的位移；

所述外殼側壁開設有與所述排水腔相通的排水口，以及與所述反應腔相通的出料口。

通過本方案，在清洗過程中，能夠對反應所得固體進行底部及上部都進行噴淋，保證清洗徹底。

優選地，所述上噴淋管包括水平噴淋管和側噴淋管，所述水平噴淋管與所述側噴淋管表面開設有噴淋口；所述過濾層與所述側噴淋管底部固定連接。

通過本方案，在從上至下噴淋的過程中，增加了側面噴淋，進一步增強了噴淋的效果。

優選地，所述濾水孔的孔壁具有一定斜度，所述孔塞為圓臺，其側面斜度與所述孔壁斜度一致。

通過本方案，使孔塞便于在自身的重力作用下塞入濾水孔。

優選地，所述濾水孔底部邊緣設有倒角。

通過本方案，便于下噴淋管進入濾水孔。

優選地，所述孔塞與所述內膽底部鉸接處設有扭簧，所述孔塞能夠在所述扭簧的彈力下塞進所述濾水孔。

通過本方案，便于孔塞能夠有足夠的力塞入濾水孔。

優選地，所述出料口下緣高度等于所述過濾層提起時其最低點高度。

通過本方案，便于對反應腔中的固體進行收集。