[發明專利]一種超平滑光電膠帶離型膜及其制備方法在審
| 申請號: | 201811421986.4 | 申請日: | 2018-11-27 |
| 公開(公告)號: | CN111218235A | 公開(公告)日: | 2020-06-02 |
| 發明(設計)人: | 李剛 | 申請(專利權)人: | 揚州萬潤光電科技有限公司 |
| 主分類號: | C09J7/40 | 分類號: | C09J7/40;C09D5/08;C09D133/04;C09D183/07;C09D183/04 |
| 代理公司: | 北京聯瑞聯豐知識產權代理事務所(普通合伙) 11411 | 代理人: | 黃冠華 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 平滑 光電 膠帶 離型膜 及其 制備 方法 | ||
本發明公開了一種超平滑光電膠帶離型膜及其制備方法,包括光學級PET基材,所述基材上附著光學膜,所述光學膜上附著一層阻隔涂層,所述阻隔涂層上附著離型層。本發明在基材上涂一層阻隔層,本發明制備的離型膜的紫外吸收率都較高,而且在離型劑里添加乙烯基MQ有機硅樹脂和環氧改性有機硅樹脂,膜的表面粗糙度都極好,大大提高了離型膜的表面光滑度。
技術領域
本發明涉及膜的制造領域,具體涉及的是一種超平滑光電膠帶離型膜及其制備方法。
背景技術
離型膜已被廣泛應用于包裝、印刷、絲印、移印、銘板、薄膜開關、柔性線路、絕緣制品、線路板、激光防偽、貼合、電子、密封材料用膜、反光材料、防水材料、醫藥(膏藥用紙)、衛生用紙、膠粘制品、模切沖型加工等行業領域。
現有技術中,光學離型膜都是在薄膜基材表面涂布反應型有機硅類材料,然后制成傳統的離型膜。而隨著光學膠領域不斷地深入研究,光學產品對光學膠的要求限制變得越來越苛刻,其離型層是由離型劑經過加工涂覆在基材上經加熱或輻射固化下形成交聯結構的硬層而對膠黏劑進行防粘作用。
發明內容
本發明的目的在于提供一種超平滑光電膠帶離型膜及其制備方法,硅油面平滑穩定。
為實現上述目的,本發明提供如下技術方案:
一種超平滑光電膠帶離型膜,包括光學級PET基材,所述基材上附著光學膜,所述光學膜上附著一層阻隔涂層,所述阻隔涂層上附著離型層。
作為優化的,所述光學膜由以下重量份的各組分組成:
作為優化的,所述阻隔涂層為氯代苯并三唑類紫外線吸收劑。
作為優化的,所述離型層由以下重量份的各組分組成:
作為優化的,所述離型層的厚度為0.1-0.7微米。
作為優化的,所述交聯劑為二異氰酸酯與皂莢提取物以20:1的比例混合得到。
超平滑光電膠帶離型膜的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟1)基材準備:利用熱風清除基材表面水分,利用離子風槍清除基材的靜電,利用硅膠除塵輥清除基材表面上的灰塵與異物;
步驟2)制備光學膜層:將消泡劑、光引發劑、聚丙烯酸酯、增稠劑和硅油混合攪拌均勻制得混合劑,控制粘度為500-800cps;
步驟3)涂覆光學膜層:將步驟2制備好的光學膜層均勻涂敷在準備好的基材上,進行第一次電加熱烘干和風干,電加熱烘干溫度為120℃,電加熱托輥旋轉轉速為10m/min;
步驟4)涂覆阻隔劑:將阻隔劑均勻涂布在步驟3得到的離型膜上,阻隔劑的濕涂布量為0.5g/㎡,有機硅油的烘干溫度為120℃,烘干機速為10m/min;
步驟5)制備離型劑:乙烯基MQ有機硅樹脂、環氧改性有機硅樹脂、甲基氫醌、環氧丙烷、十二烷基縮水甘油醚和交聯劑按照比例,混合均勻,制得離型劑;
步驟6)涂覆離型劑:將制備好的離型劑均勻涂在步驟3制備好的離型膜上,然后置于烘箱內,在130-150℃的溫度下進行脫溶、固化,制得離型膜;
步驟7)對烘干固化好的離型膜進行收卷,包裝。
乙烯基MQ有機硅樹脂具有優異的耐熱性、耐低溫性能,可在-60℃至+300℃溫度環境下使用,而且乙烯基MQ有機硅樹脂有良好的成膜性、拒水性、較好的粘附性能、適度的柔韌性,且耐老化,抗紫外線輻照。
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