[發明專利]終端及其指紋成像方法、裝置、計算機可讀存儲介質在審
| 申請號: | 201811421720.X | 申請日: | 2018-11-26 |
| 公開(公告)號: | CN111222376A | 公開(公告)日: | 2020-06-02 |
| 發明(設計)人: | 王天洋;汪菲;胡雪珂;馮勝;顧鳳軍;黃建東 | 申請(專利權)人: | 上海耕巖智能科技有限公司 |
| 主分類號: | G06K9/00 | 分類號: | G06K9/00;G06T3/40 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 張鳳偉;張振軍 |
| 地址: | 201800 上海市*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 終端 及其 指紋 成像 方法 裝置 計算機 可讀 存儲 介質 | ||
1.一種終端的指紋成像方法,其特征在于,所述終端包括指紋成像系統;所述指紋成像系統包括:多個呈陣列方式排布的點聲源組和多個呈陣列方式排布的超聲波傳感器,所述每個點聲源組包括至少一個點聲源;所述方法包括:
確定所述指紋成像系統的放大系數;
當接收到指紋檢測指令時,控制各所述點聲源組按照預設順序進行指紋檢測;
基于所述指紋成像系統的放大系數,將前一所述點聲源組獲取到的指紋圖像,與當前所述點聲源組檢測到的指紋圖像進行拼接,拼接后的指紋圖像作為當前所述點聲源組獲取的指紋圖像,直至獲取到全指紋圖像。
2.如權利要求1所述的終端的指紋成像方法,其特征在于,所述基于所述指紋成像系統的放大系數,將前一所述點聲源組獲取到的指紋圖像,與當前所述點聲源組檢測到的指紋圖像進行拼接,包括:
基于所述指紋成像系統的放大系數,對前一所述點聲源組獲取到的指紋圖像進行位置偏移,得到當前坐標系下前一所述點聲源組對應的指紋圖像;所述當前坐標系為所述當前所述點聲源組檢測到的指紋圖像所在的坐標系;
將所述當前所述點聲源組檢測到的指紋圖像,與所述當前坐標系下前一所述點聲源組對應的指紋圖像進行拼接,作為當前所述點聲源組獲取的指紋圖像。
3.如權利要求2所述的終端的指紋成像方法,其特征在于,所述基于所述指紋成像系統的放大系數,對前一所述點聲源組獲取到的指紋圖像進行位置偏移,得到當前坐標系下前一所述點聲源組對應的指紋圖像,包括:
基于所述指紋成像系統的放大系數,在所述當前坐標系中確定前一所述點聲源組中各個點聲源所在的亮點的位置坐標;
基于前一所述點聲源組獲取到的指紋圖像,與前一所述點聲源組中各個點聲源對應的亮點之間的相對距離,將前一所述點聲源組獲取到的指紋圖像按照所述指紋成像系統的放大系數偏移至當前坐標系下,得到當前坐標系下前一所述點聲源組對應的指紋圖像。
4.如權利要求1所述的終端的指紋成像方法,其特征在于,所述指紋成像系統還包括:透光蓋板,位于所述透光蓋板下方的顯示面板;所述點聲源組位于所述顯示面板下方;
所述確定所述指紋成像系統的放大系數,包括:
確定所述透光蓋板和所述顯示面板厚度值之和;
確定所述超聲波傳感器所在平面與所述點聲源組所在平面之間的第一距離值;
基于所述透光蓋板和所述顯示面板厚度值之和,與所述第一距離值,確定所述指紋成像系統的放大系數。
5.如權利要求4所述的終端的指紋成像方法,其特征在于,所述基于所述透光蓋板與所述顯示面板厚度值之和,與所述第一距離值,確定所述指紋成像系統的放大系數,包括:
將所述第一距離值,與所述透光蓋板和所述顯示面板厚度值之和的比值再與數值2求和,得到求和結果作為所述指紋成像系統的放大系數。
6.如權利要求1所述的終端的指紋成像方法,其特征在于,將檢測到的指紋圖像不接觸、不重疊時相鄰點聲源之間距離的最小值,作為所述點聲源之間的距離。
7.一種終端的指紋成像裝置,其特征在于,所述終端包括指紋成像系統;所述指紋成像系統包括:多個呈陣列方式排布的點聲源組和多個呈陣列方式排布的超聲波傳感器,每個點聲源組包括至少一個點聲源;所述裝置包括:
確定單元,適于確定所述指紋成像系統的放大系數;
控制單元,適于當接收到指紋檢測指令時,控制各所述點聲源組按照預設順序進行指紋檢測;
指紋成像單元,適于基于所述指紋成像系統的放大系數,將前一所述點聲源組獲取到的指紋圖像,與當前所述點聲源組檢測到的指紋圖像進行拼接,拼接后的指紋圖像作為當前所述點聲源組獲取的指紋圖像,直至獲取到全指紋圖像。
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