[發(fā)明專利]一種計算全息記錄光柵制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811421708.9 | 申請日: | 2018-11-26 |
| 公開(公告)號: | CN109633802A | 公開(公告)日: | 2019-04-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 姚招華 | 申請(專利權(quán))人: | 北京微美云息軟件有限公司 |
| 主分類號: | G02B5/18 | 分類號: | G02B5/18;G03H1/02 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 100043 北京市石景*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 平行光 感光材料 閃耀全息光柵 光柵制備 計算全息 全息干板 相干 曝光 顯影 制備 對稱入射 記錄材料 鋸齒槽形 制備材料 制備過程 制備設(shè)備 入射面 全息 記錄 拼接 入射 參考 | ||
1.一種計算全息記錄光柵制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟1:將一涂有感光材料的參考全息干板固定在主全息干板待拼接的兩個部分之間,用兩對稱入射的相干平行光對感光材料進(jìn)行第一次曝光;
步驟2:隨即進(jìn)行第一次顯影;
步驟3:用單束平行光以一定的角度入射進(jìn)行第二次曝光,所說的單束平行光與第一次曝光所用的兩相干平行光處在記錄材料的同一入射面;
步驟4:隨即進(jìn)行第二次顯影,即得具有鋸齒槽形的閃耀全息光柵。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的計算全息記錄光柵制備方法,其特征在于,所述步驟1中,入射角θ由下式確定:2sinθ=λ/d,其中,λ為記錄光源的激光波長,d為光柵周期,所說的記錄材料為可形成浮雕狀干涉條紋的記錄干版,記錄光源為記錄干版敏感的激光波長。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的計算全息記錄光柵制備方法,其特征在于,所述步驟3中,將主全息干板的第一部分和參考光柵放置于記錄光場中,使參考光柵與記錄光場形成較疏的莫爾條紋,莫爾條紋的方向與參考光柵的線條方向垂直,記錄該莫爾條紋信息。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的計算全息記錄光柵制備方法,其特征在于,所述對形成記錄光場的兩路光束中的一路的反射鏡進(jìn)行位置調(diào)節(jié)是指,擴(kuò)束前的一個反射鏡設(shè)置在微位移器件上,通過微位移器件改變反射鏡的位置,以改變光程,并實現(xiàn)對記錄光場條紋位相的改變。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京微美云息軟件有限公司,未經(jīng)北京微美云息軟件有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201811421708.9/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種變色反光制品
- 下一篇:一種多焦點波帶片及構(gòu)造方法





