[發明專利]一種基于光譜成像技術與圖譜分析的書畫畫風鑒定方法

在審

• 申請號: 201811421154.2
• 申請日: 2018-11-27
• 公開（公告）號: CN109543757A
• 公開（公告）日: 2019-03-29
• 發明（設計）人: 龐博;王巧萍
• 申請（專利權）人: 陜西文投藝術品光譜科技有限公司
• 主分類號: G06K9/62
• 分類號: G06K9/62;G06K9/46;G01N21/25
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種基于光譜成像技術與圖譜分析的書畫畫風鑒定方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟1、高光譜成像

對已知畫風的書畫和待鑒定書畫，利用高光譜成像儀進行高光譜成像，分別獲取已知畫風書畫的高光譜成像數據和待鑒定書畫的高光譜成像數據；

步驟2、高光譜圖像預處理

對獲取的已知畫風書畫的高光譜成像數據和待鑒定書畫的高光譜成像數據進行校正、定標處理，分別得到已知畫風書畫的預處理高光譜成像數據和待鑒定書畫的預處理高光譜成像數據；

步驟3、高光譜圖像特征變換

對處理后的已知畫風書畫的預處理高光譜成像數據和待鑒定書畫的預處理高光譜成像數據進行高光譜圖像特征變換，分別得到已知畫風書畫的高光譜特征數據和待鑒定書畫的高光譜特征數據；

步驟4、畫風特征度量與提取

對變換后的已知畫風書畫的高光譜特征數據和待鑒定書畫的高光譜特征數據進行畫風特征的度量和提取，得到已知畫風書畫的畫風特征和待鑒定書畫的畫風特征；

步驟5、已知畫風書畫特征平均化

先對已知畫風書畫的畫風特征進行歸類，即，將畫風相同的書畫的畫風特征歸為一類，并將每個歸類里的畫風特征求平均，得到不同畫風歸類的平均畫風類特征。

步驟6、待鑒定書畫畫風識別

將待鑒定書畫的畫風特征與上述不同畫風歸類的平均畫風類特征分別計算相關系數，并將計算得到的最大相關系數對應的畫風類，作為待鑒定書畫的畫風鑒定結果。

2.如權利要求1所述的一種基于光譜成像技術與圖譜分析的書畫畫風鑒定方法，其特征在于，所述步驟1高光譜成像是在相同環境，包括光源、距離、角度及成像方式下，獲取已知畫風書畫和待鑒定書畫的可見光-近紅外高光譜成像數據。

3.如權利要求1所述的一種基于光譜成像技術與圖譜分析的書畫畫風鑒定方法，其特征在于，所述步驟2高光譜圖像預處理指對已知畫風書畫的光譜圖像和待鑒定書畫的光譜圖像進行校正、定標處理，其中校正主要完成書畫數據的空間變形修正，定標主要完成書畫數據的光譜信息標定。

4.如權利要求1所述的一種基于光譜成像技術與圖譜分析的書畫畫風鑒定方法，其特征在于，所述步驟3高光譜圖像特征變換指對已知畫風的預處理書畫高光譜圖像和待鑒定書畫的預處理高光譜圖像進行光譜維數學變換，包括但不限于主成分變換和獨立成分變換。

5.如權利要求1所述的一種基于光譜成像技術與圖譜分析的書畫畫風鑒定方法，其特征在于，所述步驟4畫風特征度量與提取指對已知畫風書畫的高光譜特征數據和待鑒定書畫的高光譜特征數據，按像素點逐點計算每個像素點特征數據與全部像素點的平均特征數據的歐式距離，然后統計已知畫風書畫和待鑒定書畫的各自所有的像素點特征數據的歐式距離，得到各自的全像素特征數據歐式距離統計直方圖，作為已知書畫畫風的畫風特征和待鑒定書畫的畫風特征。

6.如權利要求1所述的一種基于光譜成像技術與圖譜分析的書畫畫風鑒定方法，其特征在于，所述步驟5已知畫風書畫的特征平均化為，先將畫風相同的書畫的畫風特征統計直方圖歸為一類，并將每個歸類里的畫風特征統計直方圖求平均，得到的每個歸類的畫風特征的平均統計直方圖，作為不同畫風歸類的平均畫風類特征。

7.如權利要求1所述的一種基于光譜成像技術與圖譜分析的書畫畫風鑒定方法，所述步驟6待鑒定書畫的畫風識別指把相關系數作為判據，將待鑒定書畫的畫風特征與上述不同畫風歸類的平均畫風類特征分別計算相關系數，并將計算得到的最大相關系數對應的畫風類，作為待鑒定書畫的畫風鑒定結果。